Occasion VARIAN E11077380 #9216111 à vendre en France

VARIAN E11077380 est un équipement électronique d'implantation et de surveillance ionique conçu et fabriqué par VARIAN Semiconductor Equipment. Le système utilise une chambre de réaction avec une unité de freinage électronique intégrée et d'analyse de masse pour obtenir un contrôle précis et précis de l'intensité du projectile et de la distribution de l'énergie. E11077380 implant ionique est conçu pour être utilisé dans l'implantation ionique, qui est un procédé utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs pour créer des couches de dopage de surface et des structures connexes. Dans ce processus, la machine VARIAN E11077380 permet un contrôle précis et précis de l'intensité du faisceau et de la distribution d'énergie pour le bombardement des surfaces de matériaux, permettant la création de circuits très précis et technologiquement avancés. E11077380 outil est équipé d'une électronique intégrée conçue pour assurer le contrôle précis de la propagation de l'énergie du faisceau, l'intensité et la taille des taches pour une uniformité unique du bombardement des matériaux sous différents paramètres de rayonnement et de substrat. L'EPS intégré de l'actif (Energy Power Supply) fournit une gamme d'énergies réglables entre 100 et 30 kV. Ceci fournit un niveau de contrôle très efficace pour les applications d'implantation et de gravure. VARIAN E11077380 est également équipé d'un modèle de moniteur de faisceau intégré pour la surveillance du profil intégral du faisceau d'ions impairs. Cet équipement fournit un retour régulier sur l'uniformité du profil de bombardement, permettant des tâches d'étalonnage régulières et automatisées. De plus, le moniteur permet à l'utilisateur de vérifier l'intensité, la propagation de l'énergie et l'uniformité de l'ensemble du processus de bombardement. E11077380 est un système modulaire, permettant un haut niveau de flexibilité et de polyvalence dans l'implantation et la gravure des matériaux. L'unité est disponible en trois configurations adaptées à des procédés et applications spécifiques, dont une version à haute énergie adaptée au dopage au silicium profond, une version à énergie intermédiaire adaptée au dopage à moyenne profondeur et une version à faible énergie conçue pour la gravure de surface. La machine est également équipée d'un pulsermaking haute tension 60kW rapide à haute tension la commutation rapide et efficace. En général, VARIAN E11077380 est un ion d'avant-garde implanter et un outil de moniteur optimisé pour les applications de gravure à l'eau forte et d'implantation de précision dans l'industrie de semi-conducteur. Ses fonctions d'électronique et de commande intégrées, associées à des pulseurs à haute efficacité énergétique et haute tension, assurent un fonctionnement précis et précis pour une implantation très efficace et reproductible des matériaux et des circuits.