Occasion VARIAN E11107177 #9265198 à vendre en France

L'ion de VARIAN E11107177 implanter & le moniteur sont un modèle avancé d'ion implanters conçu au semi-conducteur important et à la production de gaufrette de silicium. Il est couramment utilisé dans la fabrication de circuits intégrés, d'emballages au niveau des plaquettes et d'autres composants micro-électroniques. E11107177 est un équipement d'implantation de canons inondables à haut débit, polarisé en courant continu, avec des courants moyens à élevés allant de 0.2uA à 400mA. Il est capable de fonctionner à basse énergie de 1 keV à 50 keV et dispose d'une tasse Faraday intégrée pour mesurer la dose et le débit de dose à la source. La source d'ions de VARIAN E11107177 est constituée d'un générateur de faisceaux E, d'une coupe de faisceaux E et d'un ensemble collecteur. La coupelle E-Beam est équipée de deux champs RF coaxiaux qui permettent une manipulation dynamique de l'énergie et de la trajectoire du faisceau d'ions. Ceci est bénéfique car il permet d'ajuster les paramètres du processus pour cibler des composants spécifiques de la surface d'un substrat. E11107177 dispose d'ensembles à double fente guillotine et d'un système d'extraction unique qui permet d'amorcer et de terminer rapidement un balayage par faisceau d'ions, réduisant considérablement le temps d'implantation. De plus, l'unité peut être équipée d'un maximum de quatre contrôleurs de faisceau, ce qui permet d'exécuter simultanément jusqu'à quatre processus. L'implantation VARIAN E11107177 comporte plusieurs caractéristiques de sécurité intégrées. Il est équipé de divers capteurs pour surveiller la température et la pression, ainsi que d'une unité de distribution de gaz pour assurer le fonctionnement sûr de la machine. E11107177 ion implanter & monitor est un outil complet et polyvalent qui peut répondre aux exigences strictes de l'industrie des semi-conducteurs. Grâce à son balayage par faisceau commandé inertiel, à la manipulation dynamique des énergies de faisceau et à ses caractéristiques de sécurité, il est devenu une solution largement adoptée pour une grande variété d'applications d'implantation ionique.