Occasion VARIAN E11114360 #293670842 à vendre en France

VARIAN E11114360 est un équipement d'implantation et de surveillance ionique performant. C'est un type de technologie d'implantation ionique utilisée dans l'industrie des semi-conducteurs pour l'implantation d'ions dans des substrats. Le procédé est utilisé pour créer des motifs précis pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le système est une plate-forme à vide élevé qui est conçu pour maintenir le vide avec une grande précision. Il dispose d'une unité de commande automatisée qui permet des conditions d'implantation précises et cohérentes. La machine offre une précision et une répétabilité améliorées par rapport à l'implantation manuelle, tout en permettant l'utilisation de plusieurs matériaux et configurations en une seule fois. E11114360 dispose d'un outil de surveillance multifonctions conçu pour la surveillance des performances du faisceau cathodique intérieur. Il s'agit notamment d'une architecture de ligne de faisceau souple, capable de manipuler des particules multiplexées ou simples, avec des mesures n'excédant pas 4 microns. Il dispose d'un lecteur de faisceau impulsionnel pour une profondeur d'implantation uniforme. L'actif dispose d'un analyseur d'énergie de champ retardateur de haute précision. Il permet une séparation précise de l'énergie des ions non pulsés par décélération et mesure précises. Il dispose également d'un détecteur sensible à la position pour les processus automatiques d'implantation de taches et de traces. Le modèle est équipé d'un moniteur de courant d'ions in situ qui permet de surveiller le bombardement d'ions sur le substrat cible. Cela permet d'assurer un contrôle précis de l'implantation et une uniformité. Il offre également une fiabilité et une précision améliorées par rapport aux méthodes d'implantation traditionnelles. VARIAN E11114360 dispose également d'un dispositif séparé pour le transport des plaquettes. Ce dispositif permet le chargement et le déchargement automatisés des substrats tout en conservant l'intégrité du vide. Cela élimine la nécessité d'interventions manuelles, rendant le processus plus efficace et plus économique. L'équipement est également équipé pour recevoir des entrées externes d'autres dispositifs, comme la capacité d'accepter des commandes automatisées, des routines de diagnostic et des informations de l'ordinateur central. Cela permet d'assurer une plus grande précision et un meilleur contrôle du processus d'implantation. Dans l'ensemble, E11114360 est un système d'implantation/moniteur ionique puissant et précis conçu pour être utilisé dans l'industrie de la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ses caractéristiques comprennent un contrôle sous vide de haute précision, un contrôle automatisé des paramètres d'implantation, une architecture de ligne de faisceau flexible, un analyseur d'énergie de champ retardateur, un détecteur sensible à la position et un moniteur de courant d'ions in situ. Il est adapté pour une utilisation dans différents paramètres de production, et assure une plus grande fiabilité et précision dans le processus d'implantation.