Occasion VARIAN E19002370B #149061 à vendre en France

VARIAN E19002370B est un implant ionique et un moniteur utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. C'est un outil avancé avec de multiples fonctionnalités qui permettent d'ajuster, de surveiller et de contrôler avec précision le processus d'implantation ionique. Les principaux composants de l'unité sont un générateur RF, une source d'ions, une ligne de faisceau, une optique, un équipement de balayage et une unité de contrôle environnemental (ECU). Le générateur haute tension fournit l'énergie nécessaire pour accélérer les ions lorsqu'ils descendent la ligne de faisceau. La source d'ions, située à l'extrémité de la ligne de faisceau, est conçue pour produire un faisceau d'ions avec l'énergie et la dose souhaitées. Le système de balayage, qui consiste en un étage de mouvement et une électronique de commande, est utilisé pour contrôler la déflexion et la position du faisceau. L'optique permet d'optimiser la forme du faisceau avant son entrée dans le substrat. Enfin, l'unité de contrôle de l'environnement maintient la température et la pression du procédé pendant l'implantation. E19002370B est également équipé d'une unité de surveillance et de contrôle, qui permet aux opérateurs d'ajuster avec précision tous les paramètres pendant le processus d'implantation. Il leur permet de régler l'énergie du faisceau, la pression du gaz, le débit de dose et le temps de balayage. En outre, la machine peut être programmée pour ajuster ces paramètres en fonction du type de substrat implosé. L'unité dispose également d'un outil de surveillance multi-paramètres pour assurer une implantation réussie et fournir des informations détaillées sur le processus. Cet actif enregistre et affiche divers paramètres, tels que la densité du courant, la dose, le courant de paroi, le courant du faisceau et l'énergie du faisceau. De plus, l'unité peut être télécommandée pour permettre la réalisation simultanée d'implants multiples. VARIAN E19002370B est un outil puissant et précis d'implant et de surveillance, capable de manipuler tous les types de plaquettes de silicium. En assurant un contrôle et un suivi précis du processus d'implantation, il garantit la meilleure qualité dans tous les dispositifs semi-conducteurs.