Occasion VARIAN E19002442-2 #140342 à vendre en France

VARIAN E19002442-2 est un système d'implantation et de surveillance ionique de pointe capable de réaliser des implantations et d'autres processus connexes avec une grande précision et précision. Il se compose d'un injecteur de source, d'un extracteur de source, d'un moniteur de faisceau de particules, d'un porte-substrat, d'une chambre coudée, d'un transport de faisceau à basse énergie, d'un moniteur de pas de faisceau et d'un sélecteur d'énergie, qui sont tous contrôlés par le panneau de commande central. L'injecteur source est utilisé pour injecter des ions dans le faisceau. Il est constitué d'un filament et d'une électrode. Le filament est utilisé pour générer les ions positifs et les diriger dans l'électrode, qui peut être ajustée pour faire varier l'intensité du faisceau. L'extracteur aide à extraire avec précision les ions du faisceau et à filtrer les particules indésirables. Le moniteur de faisceau de particules dirige les ions aux positions souhaitées et le porte-substrat maintient le substrat dans les bonnes positions lors de l'implantation. La chambre coudée est la chambre principale du système, avec une chambre rotative qui permet une manipulation précise de la poutre tout en maintenant un courant de poutre élevé. Le transport de faisceau de faible énergie est un système de transport de faisceau qui peut être réglé pour diriger et contrôler les angles de faisceau et les angles d'incidence. Le sélecteur d'énergie est un calibrateur d'énergie utilisé pour régler avec précision l'énergie des ions implantés. Enfin, le moniteur à pas de faisceau est utilisé pour mesurer la vitesse de dépôt de dose de l'implantation ionique. Tous ces composants sont connectés au Central Control Panel pour le contrôle complet de l'implantation ionique. E19002442-2 est parfait pour une gamme de processus d'implantation, de bas à haut niveaux d'énergie, de faibles à hautes doses, et de basses à hautes températures. Il est fiable et facile à utiliser, ce qui en fait un choix parfait pour une implantation ionique efficace et précise.