Occasion VARIAN E220 #9230245 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 9230245
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1994
Medium current ion implanter, 6" Signal tower Production wafer: (2) Wafers (P.P+ type) Platen type: M-clamp Loadlock: Left & right (P.P+ type) CVCF Option: Interlock System vacuum: Ion source chamber: 1.1E-6T Beamline chamber: 8.5E-7T, 4.2E-7 End station chamber: 1.8E-7 Pumps: Terminal: Dry pump Turbo pump Controller E/S Chamber: Dry pump Dry pump / Booster pump Cryo pump L/L Cryo Make / Model / Description EBARA / 40x20 / Terminal dry LEYBOLD / Mag W 1300 / Source TMP LEYBOLD / Mag Drive / Source TMPC PFEIFFER / - / Resol. TMP PFEIFFER / - / Resol. TMPC PFEIFFER / TMH 520 IS / Beamline TMP PFEIFFER / - / Beamline TMPC CTI / Cryotorr / End station C/P GEN 1 CRYOPUMP 4F / - / Left loadlock GEN 1 CRYOPUMP 4F / - / Right loadlock EBARA / 40x20 / End station dry CTI / 9600 / Cryo compressor Process gas: High pressure: AsH3 PH3 Ar(N2) BF3: SDS X2 High voltage range: Extraction power supply: 0 keV~40 keV Acceleration power supply: 0 keV~180 keV Power supplies (Assembly): Arc: 300VDC, 15A Filament: 7.5VDC, 200A Source magnet: 20V, 50A Extraction: 40kV (Max:75kV), 50mA Extraction suppression: -2kV, 50mA Analyzer magnet: 40V, 125A (Max:150A) Mirror power supply: 30kV, 2.5mA Quadrupole magnet #1: 20V, 50A Quadrupole magnet #2: 20V, 50A Scan generator: -30kV, 10mA Crucible (Vaporizer) power supply: 60kV, 1.2mA Dipole lens magnet: 40V, 125A (Max:150A) Acceleration: 180kV, 5mA (-> 8mA) Acceleration suppression: -5kV, 5mA Controller (Assembly): Left arm servo Right arm servo Vacuum gauge Scan faraday Platen tilt servo Vertical lift orienter Uniformity Liner motor servo amp Orienter Left elevator Right elevator Dose integrator DI Temp monitor Options: Gas box type: 2-High pressure bottle, 2-SDS Insert Source type: Bernas no vaporizer Utilities: Power: 208 VAC, 3-Phase, 5-wires, 45 kVA, 120 FLA Air: 100~150 PSI N2: 40~150 PSI Cooling water: 60~150 PSI, temp: 4~21°C 1994 vintage.
VARIAN E220 est un moniteur d'implantation ionique de pointe utilisé pour la production de couches minces dans l'industrie des semi-conducteurs. Cet équipement utilise une méthode d'auto-correction pour assurer un placement ionique précis tout en surveillant la variation posologique tout au long du processus. VARIAN électronique 220 profite de trois composantes qui incluent une source d'ion, une chambre implanter et un moniteur de dosage. La source d'ions est utilisée pour accélérer les ions dans un faisceau vers l'échantillon. La chambre d'implantation abrite l'échantillon et induit un champ électrique pour agir sur les ions lors de leur passage dans la chambre. Ce champ électrique détermine l'énergie et la direction des ions, ce qui est essentiel pour l'ingénierie précise des couches minces. Le moniteur de dose est utilisé pour s'assurer que la dose des ions est contrôlée et surveillée pour s'assurer qu'elle ne dépasse pas la valeur désirée pour le procédé. E 220 comprend une alimentation pour contrôler le niveau de tension du faisceau d'ions, ainsi qu'un réseau de capteurs qui surveillent la puissance, la position et l'intensité du faisceau. Le système est également équipé d'un dispositif qui régule la propagation des particules ne permettant le passage que de celles situées dans une certaine plage. Ceci permet de s'assurer que les particules utilisées dans le procédé sont dans les paramètres souhaités pour la production de couches minces. Enfin, VARIAN E 220 est conçu avec une unité de commande intelligente avancée qui permet un fonctionnement facile et intuitif. Cela permet aux opérateurs de définir facilement les paramètres souhaités pour la production de couches minces et de surveiller de près le processus sans avoir à ajuster manuellement les valeurs. Dans l'ensemble, E220 est un outil efficace et fiable pour la production de films minces grâce à son contrôle précis du positionnement et du dosage des ions, de la machine de contrôle avancée et du réseau de capteurs. Cet outil permet aux fabricants de réaliser avec précision des films minces avec un coût et un effort minimes.
Il n'y a pas encore de critiques