Occasion VARIAN E220 #9270111 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 9270111
Medium current ion implanter, 6" Hard Disk Drive (HDD) SEIKO SEIKI Turbo pumps EDWARDS Booster pump with (2) ADIXEN scrolls Load locks with VARIAN Turbo-V 250 pumps CTI-CRYOGENICS 10F (on-board) Cryo pump, P/N 8116164G002R CTI-CRYOGENICS 9600 Helium compressor Bernas head type Suppression surge protector Reducer: 2 Steps Mirror read back Post scan chamber Wafer clamp and roplat: E-clamp Main monitor touch screen, 19" Service monitor: Remote module Auto decel HV Probe Exhaust leak detect Gas interlock unit Gas box type: BF3: High pressure PH3: SDS AsH3: SDS Ar: High pressure Filament PS: CPI Arc power supply: CPI.
VARIAN E220 est un système d'implantation et de surveillance ionique conçu pour l'industrie des semi-conducteurs. Ce dispositif est capable d'assurer l'implantation ionique et la surveillance des effluents pour la fabrication de dispositifs tels que transistors, diodes et circuits intégrés. VARIAN E-220 est capable de délivrer trois générations de distributions de flux d'ions à partir d'un faisceau intense d'ions de haute énergie avec une précision extrêmement élevée. Cela permet des économies substantielles car le coût d'implantation d'une seule plaquette est considérablement réduit. E220 présente un étalement de faisceau variable avec une faible divergence de faisceau, lui permettant d'atteindre un débit de dose élevé, et sa modulation de la vitesse de la plaquette et de l'alignement du faisceau avec des décalages de motifs programmables, des facteurs d'optimisation du faisceau optimisés, et un degré d'uniformité plus élevé que les systèmes d'implants compétitifs. VARIAN E 220 est conçu pour une flexibilité et une fiabilité maximales, lui permettant de manipuler une variété d'implants et de substrats multiples. Sa gamme d'énergie nominale de fonctionnement peut aller de 0,1 à 250 keV et son courant maximal est compris entre 0,1 et 10 µA. Avec ces réglages, les opérateurs ont accès aux implants ioniques de la plus haute précision possible dans l'industrie. E220 comprend également une série complète de mesures de surveillance des effluents, permettant le contrôle et le respect de toute exigence d'échappement liée au processus. Grâce à son système de contrôle-surveillance embarqué, l'utilisateur peut surveiller les pompes à vide, le débit de gaz, la pression, les chambres de verrouillage de charge, les générateurs RF et les outils de diagnostic, ce qui permet des réactions rapides et précises pour traiter les changements au besoin. E-220 est un choix économique et fiable pour l'implantation d'ions et la surveillance des effluents. Sa gamme de caractéristiques et de modes de fonctionnement lui permettent de s'épanouir dans les processus de fabrication des semi-conducteurs les plus complexes. Sa faible divergence de faisceau, ses taux de dose élevés et sa grande précision des implants ioniques font de VARIAN E220 un choix optimal pour toute organisation nécessitant une implantation fiable et efficace.
Il n'y a pas encore de critiques