Occasion VARIAN E220 #9361402 à vendre en France

ID: 9361402
Taille de la plaquette: 6"
Medium current ion implanter, 6" Signal tower: Front panel Single wafer E-Chuck Loadlock: Left / Right VAT Gate valve missing Vacuum: Ion source chamber Beam line chamber End station chamber Pumps: Terminal: Dry pump Turbo pump (3) Controllers E/S Chamber: Dry pump Dry pump / Booster pump Cryo pump L/L Turbo pump Maker / Model / Class EDWARDS / QDP80 / Terminal dry pump PFEIFFER / TPH 1600 / Source TMP PFEIFFER / TCP 5000 / Source TMPC PFEIFFER / TPH 510 / Resol TMP PFEIFFER / TCP 310 / Resol TMPC PFEIFFER / TPH 240 / Beam line TMP PFEIFFER / TCP 121 / Beam line TMPC CTI / 250F / End station C/P CTI / 9600 / Compressor VARIAN / CTI100 / Loadlock TMP VARIAN / CTI100 / Loadlock TMPC EDWARDS / QMB250 + QDP40 / End station dry Process gas: Type / Gas / CGA Outlet HP / AsH3 / CGA 577 HP / PH3 / CGA 578 HP / BF3 / CGA 579 HP / Ar (N2) / CGA 580 High voltage range: Extraction power supply: 0 keV~40 keV Acceleration power supply: 0 keV~180 keV Power supplies (Assembly): Filament Vaporizer Source magnet Extraction Extraction suppression Analyzer magnet Mirror power supply (Decel) (2) Quadrupole magnets Scan generator controller Mirror Dipole lens magnet Acceleration Acceleration suppression Scan trek power supply Isolation transformer assembly Mirror read back assembly: 60 keV Controller (Assembly): Left arm servo Right arm servo Vacuum gauge Scan faraday Platen tilt servo Vertical lift orienter Uniformity Liner motor servo amp Orienter Left and right elevator Dose integrator DI Temperature monitor Options: Beam reducer Decel Gas box type: HP Source type: Bernas Faraday type: VARIAN Scanning faraday Utilities: Air: 100~150 PSI N2: 40~150 PSI Cooling water: 60~150 PSI Temperature: 4°C~21°C Power supply: 208 VAC, 3-Phase, 5-wires, 43.2 kVA, 120 FLA.
VARIAN E220 est un puissant implant ionique et un moniteur automatisé conçu pour des applications d'implantation ionique exigeantes. Ses fonctionnalités et systèmes faciles à utiliser permettent un contrôle précis des paramètres du processus d'implantation, ce qui permet d'obtenir une qualité et un débit de substrats élevés. L'équipement offre une grande variété de paramètres et de capacités de processus, y compris un ou plusieurs ions, une tension variable, une configuration de faisceau externe, des feuilles de plasma, et une gamme d'autres fonctionnalités sophistiquées. Ses outils de durcissement sophistiqués sont conçus pour implanter des dopants dans le substrat en fortes concentrations, sans endommager le matériau du substrat. Le système offre également un processus d'implantation polyvalent, lui permettant de manipuler un large éventail de matériaux. Il est équipé d'un capteur haute densité intégré mesurant la densité et l'énergie du courant ionique. Le capteur peut détecter la densité d'ions dans le substrat pour maintenir les vitesses d'implantation souhaitées. VARIAN E-220 dispose d'un contrôle environnemental efficace afin de garantir les conditions idéales pour le substrat. Son contrôle environnemental avancé réduira la quantité d'énergie utilisée lors de l'implantation et améliorera la précision des résultats. L'unité comporte également une source d'ions alimentée par un courant continu, éliminant la nécessité de former du gaz et réduisant le risque de contamination. La source contient une machine de focalisation à haut rendement qui aide à stabiliser la température du substrat. Son contrôle sophistiqué de la ligne de faisceau fait de l'E 220 un choix idéal pour un processus d'implantation fiable. Le matériel spécialisé, comme les déflecteurs électrostatiques et les guides ioniques, assure un contrôle précis du faisceau et l'uniformité de l'implantation. La commande automatisée de la ligne de faisceau ajustera automatiquement la taille et la forme du faisceau au besoin, ce qui permettra une implantation précise et efficace des ions désirés. L'outil est livré avec un logiciel puissant qui rend le processus convivial et pratique. L'enregistrement des données, les diagnostics avancés et d'autres fonctions de surveillance facilitent le suivi et l'analyse des progrès de l'implantation. Le logiciel prend également en charge l'analyse statistique avancée et les enregistrements vérifiables. VARIAN E 220 est un atout polyvalent et fiable pour les besoins avancés d'implantation ionique. Avec son large éventail de caractéristiques et de capacités, il est bien adapté pour répondre à des exigences d'implantation exigeantes qui impliquent une variété de matériaux. Son matériel et son logiciel sophistiqués en font un choix idéal pour obtenir des résultats variés à des niveaux de précision élevés.
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