Occasion VARIAN E220 #9361402 à vendre en France
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ID: 9361402
Taille de la plaquette: 6"
Medium current ion implanter, 6"
Signal tower: Front panel
Single wafer
E-Chuck
Loadlock: Left / Right
VAT Gate valve missing
Vacuum:
Ion source chamber
Beam line chamber
End station chamber
Pumps:
Terminal:
Dry pump
Turbo pump
(3) Controllers
E/S Chamber:
Dry pump
Dry pump / Booster pump
Cryo pump
L/L Turbo pump
Maker / Model / Class
EDWARDS / QDP80 / Terminal dry pump
PFEIFFER / TPH 1600 / Source TMP
PFEIFFER / TCP 5000 / Source TMPC
PFEIFFER / TPH 510 / Resol TMP
PFEIFFER / TCP 310 / Resol TMPC
PFEIFFER / TPH 240 / Beam line TMP
PFEIFFER / TCP 121 / Beam line TMPC
CTI / 250F / End station C/P
CTI / 9600 / Compressor
VARIAN / CTI100 / Loadlock TMP
VARIAN / CTI100 / Loadlock TMPC
EDWARDS / QMB250 + QDP40 / End station dry
Process gas:
Type / Gas / CGA Outlet
HP / AsH3 / CGA 577
HP / PH3 / CGA 578
HP / BF3 / CGA 579
HP / Ar (N2) / CGA 580
High voltage range:
Extraction power supply: 0 keV~40 keV
Acceleration power supply: 0 keV~180 keV
Power supplies (Assembly):
Filament
Vaporizer
Source magnet
Extraction
Extraction suppression
Analyzer magnet
Mirror power supply (Decel)
(2) Quadrupole magnets
Scan generator controller
Mirror
Dipole lens magnet
Acceleration
Acceleration suppression
Scan trek power supply
Isolation transformer assembly
Mirror read back assembly: 60 keV
Controller (Assembly):
Left arm servo
Right arm servo
Vacuum gauge
Scan faraday
Platen tilt servo
Vertical lift orienter
Uniformity
Liner motor servo amp
Orienter
Left and right elevator
Dose integrator
DI Temperature monitor
Options:
Beam reducer
Decel
Gas box type: HP
Source type: Bernas
Faraday type: VARIAN Scanning faraday
Utilities:
Air: 100~150 PSI
N2: 40~150 PSI
Cooling water: 60~150 PSI
Temperature: 4°C~21°C
Power supply: 208 VAC, 3-Phase, 5-wires, 43.2 kVA, 120 FLA.
VARIAN E220 est un puissant implant ionique et un moniteur automatisé conçu pour des applications d'implantation ionique exigeantes. Ses fonctionnalités et systèmes faciles à utiliser permettent un contrôle précis des paramètres du processus d'implantation, ce qui permet d'obtenir une qualité et un débit de substrats élevés. L'équipement offre une grande variété de paramètres et de capacités de processus, y compris un ou plusieurs ions, une tension variable, une configuration de faisceau externe, des feuilles de plasma, et une gamme d'autres fonctionnalités sophistiquées. Ses outils de durcissement sophistiqués sont conçus pour implanter des dopants dans le substrat en fortes concentrations, sans endommager le matériau du substrat. Le système offre également un processus d'implantation polyvalent, lui permettant de manipuler un large éventail de matériaux. Il est équipé d'un capteur haute densité intégré mesurant la densité et l'énergie du courant ionique. Le capteur peut détecter la densité d'ions dans le substrat pour maintenir les vitesses d'implantation souhaitées. VARIAN E-220 dispose d'un contrôle environnemental efficace afin de garantir les conditions idéales pour le substrat. Son contrôle environnemental avancé réduira la quantité d'énergie utilisée lors de l'implantation et améliorera la précision des résultats. L'unité comporte également une source d'ions alimentée par un courant continu, éliminant la nécessité de former du gaz et réduisant le risque de contamination. La source contient une machine de focalisation à haut rendement qui aide à stabiliser la température du substrat. Son contrôle sophistiqué de la ligne de faisceau fait de l'E 220 un choix idéal pour un processus d'implantation fiable. Le matériel spécialisé, comme les déflecteurs électrostatiques et les guides ioniques, assure un contrôle précis du faisceau et l'uniformité de l'implantation. La commande automatisée de la ligne de faisceau ajustera automatiquement la taille et la forme du faisceau au besoin, ce qui permettra une implantation précise et efficace des ions désirés. L'outil est livré avec un logiciel puissant qui rend le processus convivial et pratique. L'enregistrement des données, les diagnostics avancés et d'autres fonctions de surveillance facilitent le suivi et l'analyse des progrès de l'implantation. Le logiciel prend également en charge l'analyse statistique avancée et les enregistrements vérifiables. VARIAN E 220 est un atout polyvalent et fiable pour les besoins avancés d'implantation ionique. Avec son large éventail de caractéristiques et de capacités, il est bien adapté pour répondre à des exigences d'implantation exigeantes qui impliquent une variété de matériaux. Son matériel et son logiciel sophistiqués en font un choix idéal pour obtenir des résultats variés à des niveaux de précision élevés.
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