Occasion VARIAN E220HP #9237387 à vendre en France
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Vendu
ID: 9237387
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1995
Ion implanter, 8"
Main components:
End station module
Terminal module
Services module
PC & Monitor
Accel column
Accel stack
Accel PSU & tray
Accel suppession PSU
Decel PSU
Enclosure
Signal tower & HV lights
Signal tower controller box
Exhaust leakage box
No remote PC & monitor
End station services module:
Right arm servo controller
Vacuum gauge controller
Scanning faraday controller
Platen tilt servo controller
Uniformity controller
Liner motor servo controller
Orienter controller
Left elevator controller
Right elevator controller
E-Chuck clamp PSU
Dose integrator controller
D.I. Temp monitor
Vertical lift orienter
No electric flood controller
No UPS
Terminal PSU & Assy:
Set-up faraday cup assy
Extraction manipulator
Motion controller
Swing out arm decel
Relay arm decel assy
Set-up mirror assy
Neutral dump assy
Anal beam dump assy
Source mag assy
Anal mag assy
Quad mag assy
Lens mag assy
Scan controller
Scan generator: 20Kv
Set-up faraday pre-amp
Vacuum gauge controller
Scan assy
Analyzer PSU
Extraction PSU
Lens PSU
Suppression PSU
Mirror PSU: 30 Kv
Source mag PSU
No 30 Kv scan generator
No Mirror 60 Kv PSU
Source head & gas cabinet:
Source head
Arc PSU
Filament PSU
No vaporizer
No vaporizer PSU
Gas module:
(2) AsH3: SDS
PH3: SDS
(3) BF3: SDS
(4) Ar: Diss, CGA 580
Vacuum system:
EDWARDS / SEIKO SEIKI STP-1000C Source turbo pump
EDWARDS / SEIKO SEIKI STP-300 Resolve turbo pump
EDWARDS / SEIKO SEIKI STP-1000 End station cryo pump
CTI 250F Load / R cryo pump
CTI 4F Load / L cryo pump
CTI 4F Beam-line turbo pump
1995 vintage.
VARIAN E220HP est un implanteur et moniteur ionique conçu pour des applications d'implantation et de contrôle de processus de haute précision. Il offre d'excellentes performances dans plusieurs domaines, y compris le débit de dose élevé, les paramètres précis du faisceau, la précision de la position de la source et un meilleur contrôle de l'uniformité du faisceau. VARIAN E220 HP est conçu pour fournir des doses consitativement élevées allant jusqu'à 80μA/cm2. La source d'ion a une taille de spot réglable qui peut être changée entre 1.2 et 3.2mm. L'uniformité du faisceau fournit des paramètres précis qui augmentent la précision et la fiabilité des résultats. Un équipement de rétroaction de position très sensible est inclus pour le positionnement précis des faisceaux et des profils d'intensité. Le moniteur comprend un moniteur automatisé en deux étapes qui mesure et contrôle à la fois l'uniformité du faisceau et les paramètres de profil. Ce moniteur peut être ajusté pour répondre à différentes exigences de dépôt et maintient également la répétabilité du faisceau ± 0,5 %. Il permet également à l'utilisateur de prérégler les profils et ses réglages de contrôle avancés peuvent améliorer la concentration et l'uniformité des particules. E 220 HP dispose également d'un système de contrôle de processus qui peut être calibré en toute sécurité avec l'amélioration de la technologie. Cette unité capture et stocke constamment les données de traitement pour chaque opération d'implant, ce qui permet d'assurer la précision et la traçabilité. Ces données peuvent être consultées pour étudier les écarts de processus ou pour fournir des documents de contrôle des processus critiques. Outre ses fonctions de contrôle avancées, E220HP dispose également de multiples mesures de sécurité. Il dispose d'une large gamme de fonctions d'alarme telles que les alarmes de pompe, de ventilateur ou de moniteur d'énergie qui assurent une protection optimale pour les opérateurs et l'environnement environnant. En résumé, E220 HP est un implant et un moniteur ionique avancé et fiable qui offre à l'utilisateur des performances exceptionnelles. Ses débits de dose constamment élevés, les paramètres précis du faisceau, le positionnement précis des faisceaux et la machine de contrôle de processus avancée sont autant de caractéristiques clés qui font de VARIAN E 220 HP un excellent choix pour les applications d'implantation et de contrôle de processus.
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