Occasion VARIAN E220HP #9237387 à vendre en France

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ID: 9237387
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1995
Ion implanter, 8" Main components: End station module Terminal module Services module PC & Monitor Accel column Accel stack Accel PSU & tray Accel suppession PSU Decel PSU Enclosure Signal tower & HV lights Signal tower controller box Exhaust leakage box No remote PC & monitor End station services module: Right arm servo controller Vacuum gauge controller Scanning faraday controller Platen tilt servo controller Uniformity controller Liner motor servo controller Orienter controller Left elevator controller Right elevator controller E-Chuck clamp PSU Dose integrator controller D.I. Temp monitor Vertical lift orienter No electric flood controller No UPS Terminal PSU & Assy: Set-up faraday cup assy Extraction manipulator Motion controller Swing out arm decel Relay arm decel assy Set-up mirror assy Neutral dump assy Anal beam dump assy Source mag assy Anal mag assy Quad mag assy Lens mag assy Scan controller Scan generator: 20Kv Set-up faraday pre-amp Vacuum gauge controller Scan assy Analyzer PSU Extraction PSU Lens PSU Suppression PSU Mirror PSU: 30 Kv Source mag PSU No 30 Kv scan generator No Mirror 60 Kv PSU Source head & gas cabinet: Source head Arc PSU Filament PSU No vaporizer No vaporizer PSU Gas module: (2) AsH3: SDS PH3: SDS (3) BF3: SDS (4) Ar: Diss, CGA 580 Vacuum system: EDWARDS / SEIKO SEIKI STP-1000C Source turbo pump EDWARDS / SEIKO SEIKI STP-300 Resolve turbo pump EDWARDS / SEIKO SEIKI STP-1000 End station cryo pump CTI 250F Load / R cryo pump CTI 4F Load / L cryo pump CTI 4F Beam-line turbo pump 1995 vintage.
VARIAN E220HP est un implanteur et moniteur ionique conçu pour des applications d'implantation et de contrôle de processus de haute précision. Il offre d'excellentes performances dans plusieurs domaines, y compris le débit de dose élevé, les paramètres précis du faisceau, la précision de la position de la source et un meilleur contrôle de l'uniformité du faisceau. VARIAN E220 HP est conçu pour fournir des doses consitativement élevées allant jusqu'à 80μA/cm2. La source d'ion a une taille de spot réglable qui peut être changée entre 1.2 et 3.2mm. L'uniformité du faisceau fournit des paramètres précis qui augmentent la précision et la fiabilité des résultats. Un équipement de rétroaction de position très sensible est inclus pour le positionnement précis des faisceaux et des profils d'intensité. Le moniteur comprend un moniteur automatisé en deux étapes qui mesure et contrôle à la fois l'uniformité du faisceau et les paramètres de profil. Ce moniteur peut être ajusté pour répondre à différentes exigences de dépôt et maintient également la répétabilité du faisceau ± 0,5 %. Il permet également à l'utilisateur de prérégler les profils et ses réglages de contrôle avancés peuvent améliorer la concentration et l'uniformité des particules. E 220 HP dispose également d'un système de contrôle de processus qui peut être calibré en toute sécurité avec l'amélioration de la technologie. Cette unité capture et stocke constamment les données de traitement pour chaque opération d'implant, ce qui permet d'assurer la précision et la traçabilité. Ces données peuvent être consultées pour étudier les écarts de processus ou pour fournir des documents de contrôle des processus critiques. Outre ses fonctions de contrôle avancées, E220HP dispose également de multiples mesures de sécurité. Il dispose d'une large gamme de fonctions d'alarme telles que les alarmes de pompe, de ventilateur ou de moniteur d'énergie qui assurent une protection optimale pour les opérateurs et l'environnement environnant. En résumé, E220 HP est un implant et un moniteur ionique avancé et fiable qui offre à l'utilisateur des performances exceptionnelles. Ses débits de dose constamment élevés, les paramètres précis du faisceau, le positionnement précis des faisceaux et la machine de contrôle de processus avancée sont autant de caractéristiques clés qui font de VARIAN E 220 HP un excellent choix pour les applications d'implantation et de contrôle de processus.
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