Occasion VARIAN E220HP #9259892 à vendre en France
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ID: 9259892
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1996
Ion implanter, 8"
Gas cabinet:
Gas cylinder volume (liter): 1.0 Liter
Internal Ar
AsH3 Cylinder type: Vaporizer
PH3 Cylinder type: High pressure
BF3 Cylinder type: High pressure
Gas line purge
Vaporizer P.S
Source:
Source head type: Bernas
No reducer type 2 step
Beam line:
Scan generator: 20 kV
Mirror: 30 kV
No automatic graded decel relay and P/S
No hall probe
End station:
Old platform
M-Clamp
Three light signal tower
VESDA Smoke detectors
Service monitor
No control computer CVCF
No video viewing of wafer loading
Accessory:
STP-1000C Source turbo pump
STP-300C Analyzer turbo pump
STP-1000 Beam line turbo pump
QDP80 Source rough pump
QDP40 Stage pump
QMP250/QDP40 End station pump
SUZUKI SHOKAN A250F Target cryo pump
SUZUKI SHOKAN A100L Load lock pump
SUZUKI SHOKAN C300 Cryo compressor
No remote PD
Vaporizer power supply missing
1996 vintage.
VARIAN E220HP est un implant ionique de haute précision et un moniteur conçu pour l'implantation de doses précises d'ions dans des matériaux semi-conducteurs. C'est un équipement polyvalent et automatisé qui peut être utilisé pour un large éventail d'applications d'implantation. Le système est équipé d'un certain nombre de caractéristiques qui maximisent l'efficacité et la précision. VARIAN E220 HP se compose d'une source d'ions, d'un accélérateur, d'une unité de contrôle de faisceau et d'une chambre de processus. La source d'ions crée et accélère les ions implantés à des énergies précises. La source d'ions est équipée de systèmes de vide et de cryopumping, et d'un régulateur de température pour des performances d'implantation optimales. L'accélérateur est conçu pour fournir un faisceau d'ions de haute énergie au substrat. Il peut également être utilisé pour ajuster l'énergie du faisceau plus en aval avant de l'implanter dans le substrat. La machine de commande du faisceau est conçue pour un contrôle précis de l'angle et de l'intensité du faisceau. Cet outil dispose également d'un extracteur qui peut ajuster avec précision l'extraction ionique et l'angle du faisceau lors de l'implantation. La chambre de process est construite avec une enceinte en acier inoxydable, offrant une excellente protection contre la contamination et permettant un contrôle précis des conditions de process. L'actif dispose d'une interface utilisateur hautement automatisée, qui permet aux utilisateurs de mettre en place des processus d'implantation complexes rapidement et facilement. Des paramètres comme la composition élémentaire des ions, l'énergie des ions et l'angle du faisceau sont tous réglables directement depuis l'interface utilisateur. De plus, le modèle peut être intégré à d'autres systèmes par l'intermédiaire d'un ordinateur externe. Cela apporte une flexibilité et une précision supplémentaires dans le traitement de multiples processus d'implantation. E 220 HP est conçu pour une fiabilité maximale et des performances constantes. Il est conçu pour résister à des conditions environnementales rigoureuses, telles que les variations de température et d'humidité qui se produisent dans les applications industrielles. Cela garantit que l'équipement fonctionnera sans interruption, même dans des conditions de travail difficiles. De plus, le système est équipé d'un certain nombre de systèmes de diagnostic et de surveillance qui peuvent détecter et identifier les défauts de l'unité avant qu'ils ne se produisent. E220 HP est un excellent choix pour ceux qui nécessitent une implantation précise des ions dans les matériaux semi-conducteurs. Ses systèmes avancés de contrôle et d'automatisation offrent une précision et une efficacité maximales, permettant aux utilisateurs de maximiser leur productivité. Ses performances fiables le rendent adapté à un large éventail d'applications industrielles.
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