Occasion VARIAN E500 EHP #293791986 à vendre en France

NIKON 4425i est un pas de plaquette haute performance conçu pour la production de procédés avancés de photomasque et de lithographie de plaquettes. Il s'agit d'un système de lithographie de pointe spécialement conçu pour la fabrication de réticules à balayage monobloc dans l'industrie des semi-conducteurs. NIKON 4425 I offre une combinaison unique de vitesse et de performance. Sa conception haute performance lui permet d'obtenir des motifs avec une précision et une fidélité extrêmement élevées. Il est capable de produire des motifs réticulaires à balayage de précision jusqu'à une résolution de 0,25 μ m. Ses capacités de balayage à grande vitesse fournissent des temps de processus rapides et un alignement précis entre les motifs d'exposition et de réticulation. 4425i utilise un certain nombre de composants optiques. Il s'agit notamment d'un objectif d'immersion, d'une lentille de focalisation fixe, d'une lentille achromatique, d'un masque gris et d'une étape. L'objectif d'immersion est conçu pour fournir un champ d'imagerie uniforme aux surfaces des plaquettes tout en maintenant une ouverture numérique élevée. La lentille de focalisation fixe fournit une longueur de focalisation réglable, permettant l'utilisation du pas à pas à différentes distances de travail. La lentille achromatique réduit les aberrations, tandis que le masque gris élimine l'exposition non uniforme sur la surface de la plaquette. L'étage pas à pas permet un contrôle précis de l'alignement entre le réticule et la surface éclairée de la plaquette. En plus de ses composants optiques, 4425 I utilise également une source lumineuse à haut parfum. Il est équipé d'une lampe à arc krypton de 300 watts qui fournit une sortie uniforme sur toute la gamme de longueurs d'onde. Une caméra CCD est également incluse, fournissant à l'opérateur une image d'ensemble pour l'alignement du masque et de la plaquette. NIKON 4425i est conçu pour être convivial et facile à utiliser. Le logiciel d'interface opérateur du système permet à l'utilisateur de configurer et de contrôler facilement les expositions. L'écran tactile des systèmes permet un contrôle et un réglage précis de tous les paramètres. Dans l'ensemble, NIKON 4425 I est un pas de tranche remarquable conçu pour la production de photomasques et de lithographie de wafer avancés. Sa combinaison de vitesse, de précision et de fiabilité en fait une solution idéale pour la fabrication de réticules à balayage monobloc dans l'industrie des semi-conducteurs.