Occasion VARIAN E500 #9024963 à vendre en France

L'ion de VARIAN E500 implanter est un équipement d'implantation d'ion de haute performance de l'Équipement de Semi-conducteur VARIAN. Il est conçu pour fournir un débit élevé et des distributions de dose et d'énergie précises et uniformes pour diverses applications. Le système utilise la dernière technologie de focalisation de masse de l'aimant pour un contrôle fiable de la longueur d'impulsion du faisceau, et une alimentation de cible numérique sophistiquée pour un contrôle précis de l'énergie. L'unité est extensible de 14 « à 30 », avec une gamme complète d'accessoires pour maximiser le débit. VARIAN E 500 utilise une source d'ions à filament chaud pour un courant de faisceau maximal, même à basse énergie. Le compresseur d'électrons permet des impulsions de faisceau très rapides, permettant un contrôle fin des niveaux de dose sans sacrifier le débit. Le contrôle du faisceau est encore amélioré par l'utilisation d'une machine à lentilles électrostatiques, optimisant la forme et la position du faisceau. Le faisceau est surveillé à l'aide d'un détecteur d'électrons dans une tasse de Faraday, ce qui élimine la nécessité d'un électromètre externe. E-500 se compose de deux sous-systèmes : l'outil d'implantation et le moniteur de sous-fonds. L'actif d'implantation comprend une chambre à quartz, une source d'ions, un tube d'accélération et des systèmes de vide, ainsi que le modèle de focalisation de masse. Le moniteur utilise un support de substrat spécialement conçu pour maintenir le substrat en sécurité, et une unité de contrôle de la posologie pour réguler le processus d'implantation. Un moniteur d'alimentation et de courant de faisceau permet un contrôle précis des niveaux de dose et d'énergie. E 500 est conçu pour la production en grande quantité de silicium et de matériaux III-V, avec une dose maximale supérieure à 400 A/cm2 par seconde. L'équipement offre une large gamme de paramètres d'implantation, et peut être adapté à une variété de matériaux, offrant une précision et une uniformité inégalées. VARIAN E-500 peut manipuler des plaquettes jusqu'à 12 pouces, et utilise un contrôle de distance source-cible haute performance pour un contrôle précis de l'efficacité. E500 système de surveillance assure la surveillance de précision de l'implantation et le contrôle de l'uniformité, assurant le produit de la plus haute qualité. Des mesures précises du faisceau et du courant de dose sont affichées en temps réel pour faciliter la surveillance et le réglage du processus. Les outils avancés de diagnostic et de suivi des processus, tels que les écrans Live-View et OD-View, permettent un dépannage rapide et facile de l'appareil. VARIAN E500 est une machine d'implantation ionique avancée et conviviale de VARIAN Semiconductor Equipment. Avec son contrôle fiable des faisceaux, son contrôle précis de la dose et de l'énergie, et ses capacités de production performantes, VARIAN E 500 est un choix idéal pour la fabrication à haut volume et le contrôle d'uniformité des matériaux semi-conducteurs.