Occasion VARIAN E500 #9085170 à vendre en France

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ID: 9085170
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 2005
Medium current ion implanter, 6" Signal tower: front panel Production wafer qty: single wafer Platen type: M-clamp Load lock: Left, right (walkout sensor) System Vacuum: Ion source chamber Beam line chamber End station chamber Terminal dry: Ebara 4020 Source TMP: Seiko STP-1000C Source TMPC: Seiko STP-1000C Resol TPM: Seiko STP-301C Resol TMPC: Seiko STP-301 Beam line TMP: Seiko STP-1000C Beamline TMPC: missing Endstation C/P: CTI On-Board 10F Compressor: Suzuki Load lock TMP: Varian CTI100 Load lock TMPC: Varian CTI100 Endstation dry: Ebara 5020 + boost Process Gases: AsH3: SDS type, VCR 1/2" PH3: SDS type, VCR 1/2" BF3: SDS type, VCR 1/2" Ar(N2): DISS type, CGA 580 Power Supplies: Arc: 300VDC, 15A Filament: missing Source Magnet: 20V, 50A Extraction: missing Extraction suppression: missing Analyzer magnet: 40V, 125A (Max 150A) Mirror power supply: 30kV, 2.5mA (2) Quadrupole Magnet: 20V, 50A Scan generator: -30kV, 10mA Mirror: missing Dipole lens magnet: 40v, 125A (Max 150A) Acceleration: missing Acceleration suppression: -5kV, 5mA Acceleration stack: missing Controller: Left Arm Servo Right Arm Servo Vacuum gauge Scan faraday Platen tilt Servo Vertical lift orienter Uniformity Linear motor servo amp Orienter Left elevator Right elevator Dose integrator DI Temp Monitor Terminal PD DC PS: missing Options: Beam energy probe: yes 2_step beam reducer: not used Auto decel: missing Gas box type: HP (2 SDS bottles, insert) Soruth type: Bernas Faraday type: Varian scanning Faraday Vaporizer PS: none Utilities: Power: 208VAC, 3 phase, 5 wires, 43.2 KVA, 120 FLA Air: 100 ~ 150 PSI N2: 40 ~ 150 PSI Cooling water: 60~150 PSI, 4-21°C High Voltage Range: Extraction power supply: 0 keV - 70 keV Acceleration power supply: 0 keV - 180 keV 1995 vintage.
VARIAN E500 est un implant et un moniteur ionique de haute performance conçu pour répondre à diverses exigences d'implantation ionique. Il utilise une source d'alimentation unique économe en espace et peut gérer des énergies de faisceau d'ions allant de 1 keV à 10 keV. VARIAN E 500 dispose d'un design modulaire qui combine une capacité d'implantation de faible précision énergétique avec un courant ionique élevé. Cette flexibilité supérieure assure une productivité maximale pour une large gamme d'opérations de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. En plus de sa conception modulaire, E-500 dispose de la dernière génération de la technologie VARIAN Tandem, fournissant une implantation haute précision et haute efficacité des ions dans différentes tailles et matériaux de plaquettes. Il utilise une technologie de tandem très avancée qui améliore l'uniformité des faisceaux, le contrôle temporel et la précision. L "équipement de contrôle VARIAN E-500's utilise le dernier VARIAN ACCeDirect, un système de contrôle des erreurs entièrement automatisé. Avec l'unité ACCeDirect, le E 500 peut être facilement surveillé à travers différents capteurs, y compris la surveillance de fin d'implant, ainsi que la durée d'impulsion du faisceau et la rétroaction de positionnement du faisceau. En outre, cette machine fournit des fonctionnalités avancées d'analyse et de contrôle des données qui aident à maintenir l'uniformité et la précision du faisceau de pointe pendant le processus de production. L'outil E500 'comprend une puissante alimentation RF avec jusqu'à 10kW énergie de faisceau. Ceci, combiné à sa conception modulaire, lui donne la capacité d'implanter des ions de faible énergie à des courants élevés. Cela a permis à VARIAN E500 de produire des doses significativement plus faibles que la plupart des autres implantateurs d'ions commerciaux, ce qui en fait une solution idéale pour les processus d'implantation d'ions au niveau de la production. VARIAN E 500 est construit avec un standard de communication IEEE-488, ce qui lui permet d'être facilement intégré avec d'autres types d'équipements de production. Elle est également soutenue par l'engagement de VARIAN à fournir le plus haut niveau de soutien technique. Dans l'ensemble, E-500 est un puissant, mais très efficace et convivial ion implanter et surveiller. Il offre une excellente capacité d'implantation et la productivité avec des énergies de faisceau réglables et des options de contrôle de précision. En outre, il est compatible avec une large gamme d'appareils et fournit une architecture ouverte pour une intégration facile dans les processus de production existants. VARIAN E-500 est une solution idéale pour toute installation de fabrication de semi-conducteurs nécessitant une implantation ionique à base de plasma à haute performance.
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