Occasion VARIAN E500 #9085170 à vendre en France
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Vendu
ID: 9085170
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 2005
Medium current ion implanter, 6"
Signal tower: front panel
Production wafer qty: single wafer
Platen type: M-clamp
Load lock: Left, right (walkout sensor)
System Vacuum:
Ion source chamber
Beam line chamber
End station chamber
Terminal dry: Ebara 4020
Source TMP: Seiko STP-1000C
Source TMPC: Seiko STP-1000C
Resol TPM: Seiko STP-301C
Resol TMPC: Seiko STP-301
Beam line TMP: Seiko STP-1000C
Beamline TMPC: missing
Endstation C/P: CTI On-Board 10F
Compressor: Suzuki
Load lock TMP: Varian CTI100
Load lock TMPC: Varian CTI100
Endstation dry: Ebara 5020 + boost
Process Gases:
AsH3: SDS type, VCR 1/2"
PH3: SDS type, VCR 1/2"
BF3: SDS type, VCR 1/2"
Ar(N2): DISS type, CGA 580
Power Supplies:
Arc: 300VDC, 15A
Filament: missing
Source Magnet: 20V, 50A
Extraction: missing
Extraction suppression: missing
Analyzer magnet: 40V, 125A (Max 150A)
Mirror power supply: 30kV, 2.5mA
(2) Quadrupole Magnet: 20V, 50A
Scan generator: -30kV, 10mA
Mirror: missing
Dipole lens magnet: 40v, 125A (Max 150A)
Acceleration: missing
Acceleration suppression: -5kV, 5mA
Acceleration stack: missing
Controller:
Left Arm Servo
Right Arm Servo
Vacuum gauge
Scan faraday
Platen tilt Servo
Vertical lift orienter
Uniformity
Linear motor servo amp
Orienter
Left elevator
Right elevator
Dose integrator
DI Temp Monitor
Terminal PD DC PS: missing
Options:
Beam energy probe: yes
2_step beam reducer: not used
Auto decel: missing
Gas box type: HP (2 SDS bottles, insert)
Soruth type: Bernas
Faraday type: Varian scanning Faraday
Vaporizer PS: none
Utilities:
Power: 208VAC, 3 phase, 5 wires, 43.2 KVA, 120 FLA
Air: 100 ~ 150 PSI
N2: 40 ~ 150 PSI
Cooling water: 60~150 PSI, 4-21°C
High Voltage Range:
Extraction power supply: 0 keV - 70 keV
Acceleration power supply: 0 keV - 180 keV
1995 vintage.
VARIAN E500 est un implant et un moniteur ionique de haute performance conçu pour répondre à diverses exigences d'implantation ionique. Il utilise une source d'alimentation unique économe en espace et peut gérer des énergies de faisceau d'ions allant de 1 keV à 10 keV. VARIAN E 500 dispose d'un design modulaire qui combine une capacité d'implantation de faible précision énergétique avec un courant ionique élevé. Cette flexibilité supérieure assure une productivité maximale pour une large gamme d'opérations de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. En plus de sa conception modulaire, E-500 dispose de la dernière génération de la technologie VARIAN Tandem, fournissant une implantation haute précision et haute efficacité des ions dans différentes tailles et matériaux de plaquettes. Il utilise une technologie de tandem très avancée qui améliore l'uniformité des faisceaux, le contrôle temporel et la précision. L "équipement de contrôle VARIAN E-500's utilise le dernier VARIAN ACCeDirect, un système de contrôle des erreurs entièrement automatisé. Avec l'unité ACCeDirect, le E 500 peut être facilement surveillé à travers différents capteurs, y compris la surveillance de fin d'implant, ainsi que la durée d'impulsion du faisceau et la rétroaction de positionnement du faisceau. En outre, cette machine fournit des fonctionnalités avancées d'analyse et de contrôle des données qui aident à maintenir l'uniformité et la précision du faisceau de pointe pendant le processus de production. L'outil E500 'comprend une puissante alimentation RF avec jusqu'à 10kW énergie de faisceau. Ceci, combiné à sa conception modulaire, lui donne la capacité d'implanter des ions de faible énergie à des courants élevés. Cela a permis à VARIAN E500 de produire des doses significativement plus faibles que la plupart des autres implantateurs d'ions commerciaux, ce qui en fait une solution idéale pour les processus d'implantation d'ions au niveau de la production. VARIAN E 500 est construit avec un standard de communication IEEE-488, ce qui lui permet d'être facilement intégré avec d'autres types d'équipements de production. Elle est également soutenue par l'engagement de VARIAN à fournir le plus haut niveau de soutien technique. Dans l'ensemble, E-500 est un puissant, mais très efficace et convivial ion implanter et surveiller. Il offre une excellente capacité d'implantation et la productivité avec des énergies de faisceau réglables et des options de contrôle de précision. En outre, il est compatible avec une large gamme d'appareils et fournit une architecture ouverte pour une intégration facile dans les processus de production existants. VARIAN E-500 est une solution idéale pour toute installation de fabrication de semi-conducteurs nécessitant une implantation ionique à base de plasma à haute performance.
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