Occasion VARIAN E500 #9206611 à vendre en France
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ID: 9206611
Style Vintage: 1993
Medium current ion implanter, 6"
Signal tower: Front panel
Platen type: M-clamp
Loadlock: Left, right
No CVCF Option
System vacuum:
Ion source chamber
Beamline chamber
End station chamber
Pumps:
Terminal:
Dry pump
Turbo pump & (3) controllers
E/S Chamber:
Dry pump
Dry pump / Booster pump
Cryo pump
L/L Cryo
Maker / Model / Class
EDWARDS / QDP80 / Terminal dry
PFEIFFER / TPH 1600 / Source TMP
PFEIFFER / TCP 5000 / Source TMPC
PFEIFFER / TPH 510 / Resol TMP
PFEIFFER / TCP 310 / Resol TMPC
PFEIFFER / TPH 240 / Beamline TMP
PFEIFFER / TCP 121 / Beamline TMPC
CTI / 250 / Endstation C/P
CTI / 8500 / Compressor
VARIAN / CTI100 / Loadlock TMP
VARIAN / CTI100 / Loadlock TMPC
EDWARDS / 5020+boost / End station dry
Process gas:
AsH3: HP Type, VCR 1/2"
PH3: HP Type, VCR 1/2"
BF3: HP Type, VCR 3/8"
Ar(N2): HP Type, CGA 580 (Non gas line)
High voltage range:
Extraction power supply: 0 keV~70 keV
Acceleration power supply: 0 keV ~ 180 keV
Power supplies:
Arc: 300VDC, 15A
Filament: 7.5VDC, 200A
Source magnet: 20V, 50A
Extraction: 70kV (Max:75kV), 50mA
Extraction suppression: -2kV, 50mA
Analyzer magnet: 40V, 125A (Max:150A)
Mirror power supply (decel): 30kV, 2.5mA
Quadrupole magnet #1: 20V, 50A
Quadrupole magnet #2: 20V, 50A
Scan generator controller: -30kV, 10mA
Mirror: 60kV, 1.2mA
Dipole lens magnet: 40V, 125A (Max:150A)
Acceleration: 180kV, 5mA (-> 8mA)
Acceleration suppression: -5 kV, 5 mA
Scan trek power supply: 30 kV
Isolation transformer assy: 70 kV
Controller (Assembly):
Left arm servo
Right arm servo
Vacuum gauge
Scan faraday
Platen tilt servo
Vertical lift orienter
Uniformity
Liner motor servo amp
Orienter
Left elevator
Right elevator
Dose integrator
DI Temp monitor
Options:
No beam energy probe
No 2 step beam reduser
No auto deceleration
Gas box type: HP
Source type: Bernas
Faraday type: VARIAN Scanning faraday
Utilities:
Air: 100~150 psi
N2: 40~150 psi
Cooling water: 60~150 psi
Temperature: 4~21°C
Power: 208VAC, 3-Phase, 5 Wires, 43.2kVA, 120FLA
1993 vintage.
VARIAN E500 est un implant et un moniteur ionique conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, la gravure de plasma et les processus d'implantation ionique. C'est un outil polyvalent pour réaliser le contrôle du niveau des appareils ainsi que des applications d'implantation à haute énergie. En outre, VARIAN E 500 offre une gamme de processus et de capacités de contrôle, ce qui lui permet d'être utilisé dans divers types de processus d'implantation. Le système utilise une conception brevetée de jonction triple pour diriger avec précision les ions pour l'implantation. Il est équipé d'un plan d'étage double axe pour un positionnement précis de l'échantillon implanté. Ceci est réalisé à l'aide d'un codeur mécanique et d'un ordinateur de bord, ce qui permet à la machine de localiser avec précision les échantillons dans la zone d'implantation appropriée. E-500 est capable d'implanter de l'arsenic, du bore, du phosphore et de l'antimoine. Il peut également être utilisé pour implanter du phosphore dans des structures implantées à haute énergie. E500 est capable de fournir un large éventail de doses afin que les fabricants puissent définir des paramètres d'implantation pour toutes les espèces et suivre un large éventail de données. Il est spécialement conçu pour surveiller le processus d'implantation et a la capacité de détecter les dysfonctionnements ou les imperfections de l'échantillon. Cela permet d'éviter d'éventuels dommages qui, autrement, causeraient des dommages irréversibles au produit fini. Il est également capable de contrôler les températures à l'intérieur de la chambre pendant chaque cycle d'implantation et de s'ajuster en conséquence si nécessaire. VARIAN E-500 est équipé d'une fonction d'accès à distance innovante afin que les utilisateurs puissent surveiller le système de n'importe où. Cette fonctionnalité est utile pour ceux qui sont incapables d'être physiquement à la machine pendant les implantations. Grâce à cette fonctionnalité, l'entrée manuelle peut se faire à distance et les données recueillies au cours du processus d'implantation peuvent être consultées à distance. Dans l'ensemble, le E 500 est un outil d'implantation et de contrôle puissant et fiable pour des processus de haute énergie établis et établis. Il offre un large éventail de processus et de capacités de contrôle ainsi qu'une fonction d'accès à distance qui facilite la surveillance et l'ajustement des paramètres d'implantation. Cela fait de VARIAN E500 un outil idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, la gravure de plasma et les processus d'implantation ionique.
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