Occasion VARIAN EHP-500 #9005445 à vendre en France

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ID: 9005445
Ion Implanter, 8" Software Version : V12.15 rev D Wafer Clamp: e-clamp Gas Box: HP type Gas 1: BF3 HP Gas 2: Ph3 HP Gas 3: AsH3 HP Gas 4: Ar HP Main monitor: CRT touch screen Service monitor: CRT touch screen Traveling Faraday Type TVL New style Auto Decel: Yes Source head: Bernas Hall probe: Gauss probe Pumps: Source Turbo Pump – Seiko Seiki STP-1000C Beamline Turbo Pump – Both Seiko Seiki STP-1000C & STP-300 Endstation Cryo Pump Chamber – V-250 Load Lock – V-300 Source Dry Pump – Edwards IQDP-80 Endstation Dry Pump – Edwards QDP-80 Differential Seals – IQDP80 + Blower Cryo Compressor - 9600 Installed, can be demonstrated 1997 vintage.
L'ion de VARIAN EHP-500 implanter est un manigancé de la précision, l'équipement hautement avancé, intégré conçu avec l'ingénierie d'implant moderne et la physique en tête. C'est un outil rentable pour les chercheurs et les ingénieurs industriels qui doivent implanter des ions dans un substrat. Avec VARIAN EHP500, vous obtenez une implantation, une surveillance et un contrôle incroyablement précis du courant ionique, du débit de dose et d'autres paramètres au cours du processus d'implantation. EHP 500 constitue une source produisant un faisceau d'ions stable et un système optique d'ions pour le diriger à la profondeur requise et à l'angle correct. Il est équipé d'une unité de commande du courant de faisceau pour assurer et ajuster avec précision le courant dans une plage mesurée. La machine dispose d'un analyseur de gaz résiduel pour mesurer le courant d'ions total diffusé par le gaz résiduaire ainsi que d'autres paramètres qui peuvent être surveillés à tout moment du processus. En plus de disposer d'une interface informatique intégrée pour la surveillance des données, VARIAN EHP 500 est également livré avec un logiciel capable de contrôler et de régler divers paramètres. Ce logiciel inclut des fonctionnalités telles que l'historique, le contrôle du débit de dose et de la densité de courant, ainsi que la modulation de largeur d'impulsion et le contrôle de commande intégré. EHP500 est compatible avec une variété de sources et de substrats d'ions, y compris les ions de canaux contraints et relâchés, les structures d'implantation d'ions de canaux et d'ions de silicium réguliers, les structures photorésistantes et de support, ainsi que les substrats de type p et épitaxiés. L'outil comprend également un large éventail de milieux d'implantation, y compris Si, Ge, C, Sn et CO. EHP-500 est à la fois convivial et convivial. Il est conçu ergonomiquement pour réduire la fatigue des opérateurs, et son interface intuitive contribue à augmenter l'efficacité. L'actif est également incroyablement robuste ; il peut supporter un large éventail de conditions, y compris des températures élevées, et résiste aux chocs mécaniques et aux vibrations. VARIAN EHP-500 est un modèle d'implantation de pointe, polyvalent et précis, fiable et facile à utiliser. Il est parfaitement adapté à une large gamme d'applications d'implantation ionique dans la recherche et l'industrie. C'est le choix parfait pour quiconque a besoin d'un implanteur et d'un moniteur ionique robuste et performant.
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