Occasion VARIAN EHP-500 #9005445 à vendre en France
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Vendu
ID: 9005445
Ion Implanter, 8"
Software Version : V12.15 rev D
Wafer Clamp: e-clamp
Gas Box: HP type
Gas 1: BF3 HP
Gas 2: Ph3 HP
Gas 3: AsH3 HP
Gas 4: Ar HP
Main monitor: CRT touch screen
Service monitor: CRT touch screen
Traveling Faraday Type TVL New style
Auto Decel: Yes
Source head: Bernas
Hall probe: Gauss probe
Pumps:
Source Turbo Pump – Seiko Seiki STP-1000C
Beamline Turbo Pump – Both Seiko Seiki STP-1000C & STP-300
Endstation Cryo Pump
Chamber – V-250
Load Lock – V-300
Source Dry Pump – Edwards IQDP-80
Endstation Dry Pump – Edwards QDP-80
Differential Seals – IQDP80 + Blower
Cryo Compressor - 9600
Installed, can be demonstrated
1997 vintage.
L'ion de VARIAN EHP-500 implanter est un manigancé de la précision, l'équipement hautement avancé, intégré conçu avec l'ingénierie d'implant moderne et la physique en tête. C'est un outil rentable pour les chercheurs et les ingénieurs industriels qui doivent implanter des ions dans un substrat. Avec VARIAN EHP500, vous obtenez une implantation, une surveillance et un contrôle incroyablement précis du courant ionique, du débit de dose et d'autres paramètres au cours du processus d'implantation. EHP 500 constitue une source produisant un faisceau d'ions stable et un système optique d'ions pour le diriger à la profondeur requise et à l'angle correct. Il est équipé d'une unité de commande du courant de faisceau pour assurer et ajuster avec précision le courant dans une plage mesurée. La machine dispose d'un analyseur de gaz résiduel pour mesurer le courant d'ions total diffusé par le gaz résiduaire ainsi que d'autres paramètres qui peuvent être surveillés à tout moment du processus. En plus de disposer d'une interface informatique intégrée pour la surveillance des données, VARIAN EHP 500 est également livré avec un logiciel capable de contrôler et de régler divers paramètres. Ce logiciel inclut des fonctionnalités telles que l'historique, le contrôle du débit de dose et de la densité de courant, ainsi que la modulation de largeur d'impulsion et le contrôle de commande intégré. EHP500 est compatible avec une variété de sources et de substrats d'ions, y compris les ions de canaux contraints et relâchés, les structures d'implantation d'ions de canaux et d'ions de silicium réguliers, les structures photorésistantes et de support, ainsi que les substrats de type p et épitaxiés. L'outil comprend également un large éventail de milieux d'implantation, y compris Si, Ge, C, Sn et CO. EHP-500 est à la fois convivial et convivial. Il est conçu ergonomiquement pour réduire la fatigue des opérateurs, et son interface intuitive contribue à augmenter l'efficacité. L'actif est également incroyablement robuste ; il peut supporter un large éventail de conditions, y compris des températures élevées, et résiste aux chocs mécaniques et aux vibrations. VARIAN EHP-500 est un modèle d'implantation de pointe, polyvalent et précis, fiable et facile à utiliser. Il est parfaitement adapté à une large gamme d'applications d'implantation ionique dans la recherche et l'industrie. C'est le choix parfait pour quiconque a besoin d'un implanteur et d'un moniteur ionique robuste et performant.
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