Occasion VARIAN EHP-500 #9015612 à vendre en France
Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.
Appuyez sur pour zoomer
Vendu
ID: 9015612
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1998
Medium current ion implanter, 8"
Wafer shape: SNNF (Semi Notch No Flat)
Wafer cassette: 8" plastic Miraial
No SMIF interface
Power distribution: 208 V, 60 Hz, 75 kVA, 3 phase Y-connection
Control system: 1 GHz computer
Software version: 13.43.29
Beam energy:
5-250 keV (single charged ion)
250-500 keV (double charged ion)
500-750 keV (triple charged ion) auto accel/decel mode
Gasbox 1: Ar HP external supply
Gasbox 2: BF3 HP
Gasbox 3: ASH3 SDS
Gasbox 4: PH3 SDS
Cryo pump: Daikin MARATHON-12 V28MC612SMR
Cryo compressor: Daikin U108CW
TMP: Edwards STP-1000C
TMP 2: Edwards STP-1000C
TMP 3: Seiko STP-300C
TMP 4: (2) Varian V-300HT
Ion source: Bernas type, W-Arc chamber
No dual vaporizer
No beam reducer
Platen: E-CLAMP composite
1998 vintage.
VARIAN EHP-500 est un implant et moniteur ionique capable de produire et de contrôler une large gamme de traitements de surface, permettant à divers fabricants de traiter des matériaux présentant une gamme de caractéristiques physiques. Il est doté d'un concentrateur de graphite intégré, d'une source d'ions miniatures d'électrons à profondeur étendue et d'un équipement breveté de protection des sources d'ions isolants. Le puissant concentrateur de graphite de VARIAN EHP500 est capable de fournir une densité de puissance homogène élevée sur la surface proche et lointaine du substrat, offrant un degré de précision et de contrôle plus élevé que les systèmes comparables. De plus, la source de mini-électrons à profondeur étendue permet une plus grande gamme d'énergies avec lesquelles travailler, ainsi qu'une profondeur de pénétration et une homogénéité accrues. Le système breveté de protection de la source d'ions isolants offre un traitement plus uniforme à la surface du matériau, améliorant ainsi la précision et la répétabilité. EHP 500 a une variété de paramètres personnalisables pour aider les utilisateurs à obtenir le résultat souhaité à partir de leur traitement de substrat. Cela inclut une gamme complète de paramètres de numérisation, tels que la fréquence de numérisation, l'amplitude, la vitesse de numérisation et le temps de séjour, ainsi que des paramètres de caractéristiques réglables comme la taille de la garniture, la profondeur de l'utilisateur de focalisation, le temps d'écart et le temps de la plaquette. En outre, le dispositif dispose d'un puissant moniteur de processus qui peut immédiatement évaluer l'avancement du traitement en temps réel, permettant aux utilisateurs d'apporter les corrections et les ajustements nécessaires au besoin. EHP500 dispose également de plusieurs dispositifs de sécurité pour assurer une productivité maximale et une protection du personnel. Il est équipé d'une unité de protection contre la surcharge qui se produit en cas de perte de tension, de charge ou de courant anormal, et s'éteint automatiquement si des conditions dangereuses existent. De plus, le logiciel de l'appareil est surveillé en permanence afin de détecter d'éventuels accidents ou dysfonctionnements dans le matériel avant qu'ils ne se produisent. En conclusion, EHP-500 est un implant et moniteur ionique efficace et fiable disponible sur le marché, offrant aux utilisateurs des traitements de surface précis et reproductibles et de nombreux paramètres réglables pour un contrôle maximal. Sa puissante focale en graphite, sa mini-source d'ions à profondeur étendue et sa machine isolante de protection contre les sources d'ions offrent une précision et une polyvalence inégalées, tandis que le moniteur de processus intégré et les fonctions de sécurité garantissent une sécurité et une productivité maximales.
Il n'y a pas encore de critiques