Occasion VARIAN EHP-500 #9092902 à vendre en France
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ID: 9092902
Taille de la plaquette: 4"
Style Vintage: 2001
Medium current ion implanter, 4"
Rotating, uncooled platen with silicon-coated 6-point clamp
(225) Wafer capacity highly polished load locks
Tungsten Bernas Ion source
HP gas box
Inert (Ar) connection
2-Stage low beam aperture
Ion beam filter
End station pumping: (2) varian 300HT loadlock turbo, (1) CT-10 chamber Cryo
Metals reduction kit
Si-coated acceleration column
Graphite target chamber side wall shields
Resolving chamber cold cathode vacuum gauge
V11 S/W, real time beam, purity check S/W
SECSII host communications
2000 vintage.
VARIAN EHP-500 est un implant ionique et un moniteur pour l'industrie des semi-conducteurs. Il est capable de produire des particules dopantes à haute énergie avec une précision élevée, tout en offrant des options de précision et de surveillance fiables pour assurer la vitesse d'implantation souhaitée. L'implanteur dispose d'une alimentation intégrée avec une grande précision et stabilité du courant. Il est capable de fournir une gamme d'énergies avec jusqu'à 20 microampères sur des particules dopantes et peut obtenir jusqu'à 36 000 watts de puissance. À ces niveaux, VARIAN EHP500 peut injecter facilement et contrôler de hauts éléments d'énergie dans la gamme de 1-500KeV. Cela permet à l'implanteur d'adapter les implants de différents dopants pour répondre aux exigences spécifiques d'application. EHP 500 utilise également un logiciel de contrôle et de surveillance de l'énergie du faisceau ionique qui permet de vérifier facilement le profil énergétique du faisceau avant et pendant l'implantation. Les opérateurs peuvent utiliser ce logiciel pour gérer jusqu'à neuf énergies de faisceau différentes et un nombre variable de durées pour une précision maximale des implants. En outre, le logiciel fournit des commentaires diagnostiques en temps réel pour aider à l'optimisation des processus. Outre ses puissantes capacités d'implantation, EHP500 monitor assure également la surveillance in situ des espèces d'ions et la collecte et l'analyse à grande vitesse des données sur le processus de dépôt. Son détecteur de spectrométrie de masse est étroitement intégré au système d'analyse et de contrôle du faisceau d'ions. Le moniteur mesure l'étendue de la profondeur de l'implant avec une résolution de 10nm, ce qui permet à l'opérateur de personnaliser la profondeur et l'énergie de l'implant sur différents substrats. EHP-500 est conçu pour garantir la précision et la fiabilité dans la production d'implants semi-conducteurs. Son alimentation et ses logiciels fournissent aux utilisateurs le contrôle précis et la rétroaction dont ils ont besoin pour s'assurer que les implants sont produits selon les normes les plus élevées.
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