Occasion VARIAN EHP-500 #9142690 à vendre en France

L'ion de VARIAN EHP-500 implanter est un équipement d'implantation d'ion flexible et fiable présentant la capacité d'implanter de hauts ions actuels dans le semi-conducteur et les gaufrettes de silicium en toute tranquillité et exactement. Ce système est équipé d'un dispositif haute tension de pointe capable d'atteindre une tension maximale de 40 kV, offrant une grande flexibilité pour l'implantation d'ions sur une large gamme de matériaux de substrat. La capacité à manipuler des particules aussi grandes que 200 keV permet d'implanter différents matériaux, tout en étant en mesure d'assurer un résultat très précis. La chambre d'implantation est conçue pour traiter l'insertion de sources d'ionisation, dont la majorité peut être réalisée in situ, permettant un débit de substrats plus rapide et plus efficace. En outre, la chambre est conçue pour gérer la surpression jusqu'à 10-4 Torr, ce qui la rend appropriée pour l'introduction sèche et humide d'ions dans la plaquette. VARIAN EHP500 est conçu pour accueillir un large éventail de substrats et est fabriqué à partir de matériaux conducteurs, résistants à la corrosion et au rayonnement. Avec la chambre d'implantation, EHP 500 est équipé d'un moniteur ionique sophistiqué capable de surveiller une gamme de paramètres dans le processus d'implantation. Ceci comprend le courant du faisceau, la position du faisceau, les alignements du faisceau, l'énergie cinétique des ions, la distance du substrat, la température du substrat et la concentration de dopage. Le moniteur est également capable d'enregistrer les données en temps réel et après l'implantation, ce qui permet aux opérateurs d'analyser et d'ajuster les paramètres d'implantation rapidement et avec précision. En outre, EHP500 possède une interface utilisateur graphique qui permet à l'opérateur de contrôler visuellement chacun des processus d'implantation à travers un écran graphique. Par exemple, un opérateur peut régler l'alignement du faisceau, l'énergie ionique, la distance du substrat et d'autres paramètres directement à partir du moniteur, en quelques secondes. L'interface utilisateur permet un retournement rapide des implants et facilite également la mesure des paramètres de post-implantation, tels que la caractérisation du courant de fuite et de la profondeur de jonction, assurant que seuls les échantillons implantés de la plus haute qualité sont livrés. Enfin, EHP-500 est équipé d'une unité d'électro-pulvérisation secondaire capable de créer un champ électrique pour déplacer rapidement des ions dans la chambre d'implantation, permettant des résultats très équilibrés et reproductibles lors du déplacement du substrat à basse vitesse. Cette unité de pointe est adaptée à tous les types d'implantations, telles que celles à faibles doses et haute tension. En conclusion, VARIAN EHP 500 est une machine d'implantation ionique fiable, polyvalente et très précise, capable de s'implanter dans divers substrats. Le moniteur sophistiqué et l'interface utilisateur permettent un fonctionnement simple du processus d'implantation, tandis que l'unité d'électrospray avancée assure une implantation précise et uniforme dans chaque échantillon.