Occasion VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON 350D #293652051 à vendre en France

ID: 293652051
Taille de la plaquette: 6"
Ion implanter, 6".
VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON 350D est un implanteur et moniteur ionique conçu pour assurer une implantation précise des semi-conducteurs. Il est capable d'implants ioniques simples et multiples, ce qui en fait un choix puissant pour tout processus de production. L'implanteur est équipé d'un système de manutention horizontale des plaquettes, d'un contrôle robuste de précision double face de l'angle de balayage, d'un contrôle de la température des plaquettes et de paramètres réglables haute tension. De plus, TEL 350D est équipé d'un analyseur de faisceau d'ions numériques haute performance pour le contrôle de dose et l'uniformité. VARIAN 350D dispose d'une gamme de paramètres réglables et est capable d'implanter des ions positifs et négatifs. Il est également équipé d'un total de 10 canaux afin de permettre des opérations simultanées de différents types de matériaux et d'isotopes. La commande double face utilise un collimateur en forme de C unique pour améliorer la précision de l'angle de balayage, et l'uniformité de la dose implantée est améliorée avec des paramètres de tension et de courant réglables. TOKYO ELECTRON 350D permet une implantation courte de deux à quatre millimètres de diamètre et sa polyvalence le rend apte à implanter une variété de matériaux tels que le phosphore, l'arsenic, le bore, l'indium et le gallium. Le système de manutention des plaquettes de 350D permet d'assurer le plus haut niveau de contrôle de la qualité grâce à ses capacités automatisées de centrage, d'alignement et de balayage. De plus, le contrôle de la température des plaquettes permet d'uniformiser les surfaces et d'améliorer la stabilité tout au long du processus d'implantation. L'analyseur numérique de faisceau d'ions offre un contrôle de dose et d'uniformité ainsi qu'une rétroaction en temps réel, permettant une précision accrue. Enfin, VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON 350D est équipé d'un système de surveillance de pointe pour la couverture à 360 ° du faisceau, assurant un processus d'implantation entièrement traçable avec un rapport approfondi généré à l'issue des opérations. Ce niveau de contrôle sans précédent fait de TEL 350D un choix puissant pour l'implantation de précision des semi-conducteurs.
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