Occasion VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON FBR II / HPS-T001 / HT II #9187207 à vendre en France

ID: 9187207
Style Vintage: 1996
Ion implant system High voltage power supply HV FBR HPS Accel: +120KV x 50 mA Decel: ±60KV x 50 mA Isolation: 115/230V Line: 208V FBR Unit: FBR11 E1 HV Unit: HFT11 E2 HV Unit: HFT12 Isolation transformer unit: HT11 Single phase 50/60 Hz 4 kVA Primary: 208V Secondary: 115/230 1996 vintage.
VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON FBR II/ HPS-T001/HT II est un implanteur et moniteur d'ions développé et fabriqué par TEL, un fournisseur leader d'équipements de fabrication de semi-conducteurs. Le dispositif est conçu pour augmenter la vitesse et la précision de la production de dispositifs semi-conducteurs. Le FBR II est un équipement d'implantation et de surveillance ionique efficace et fiable qui utilise la technologie Faraday Cage. Il dispose d'une cage verticale Faraday qui augmente la précision du courant ionique et d'une lentille d'induction hélicoïdale unique qui disperse les ions de manière uniforme, maximisant l'uniformité au sein de la chambre d'application. Le niveau élevé de précision, de fiabilité et de vitesse du FBR II fournit des processus rapides et précis pour la production de dispositifs semi-conducteurs. En plus de l'implantation ionique, le FBR II dispose également d'un système de surveillance intégré. Cette unité de surveillance utilise une variété de capteurs et de signaux au sein de l'outil, lui permettant de mesurer divers paramètres tels que la température, la contamination et les caractéristiques du substrat. La machine de surveillance peut être utilisée pour améliorer la précision globale du processus et prédire les défaillances potentielles. Le FBR II dispose également d'une large gamme d'accessoires et de composants qui permettent de réaliser une large gamme d'applications de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il peut être utilisé pour divers procédés, tels que l'implantation, la bande photorésistante, le recuit, le dépôt sous vide et les essais de plaquettes. Le FBR II comprend également une gamme d'autres composants tels qu'un mécanisme de transfert de substrat, un chauffe-substrat en ligne et une vis de dérive programmable. Dans l'ensemble, TEL FBR II/ HPS-T001/HT II est un outil efficace et fiable d'implantation et de surveillance des ions qui peut être utilisé pour augmenter la vitesse et la précision de la production de dispositifs semi-conducteurs. Il dispose d'une cage Faraday avancée et d'une lentille à induction hélicoïdale unique qui fournit précision et fiabilité, d'un outil de surveillance intégré qui aide au contrôle et à la maintenance des processus, et d'une gamme d'accessoires utiles. Toutes ces caractéristiques contribuent à la fiabilité et à l'efficacité du FBR II pour une gamme d'applications de fabrication de dispositifs semi-conducteurs.
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