Occasion VARIAN VIISion 80 #9039557 à vendre en France
Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.
Appuyez sur pour zoomer
Vendu
ID: 9039557
High current ion implanter, 8"
Safe Gas Delivery System
Cryo, fourth implant chamber
SECS II automation
Two dimensional beam profiler
Angled implant, automatic
Classic End Station
With the addition of: Zero integral magnetic faraday
Includes:
+7 to -7 degree wafer tilt angle.
Plasma flood gun.
Horizontal wafer handling.
Full system automation.
Operator touch screen.
Tungsten Bernas ion source.
Silicon coated disc and spillover cup.
3 light signal tower
1995 vintage.
VARIAN VIISion 80 est un implanteur d'ions à haut débit à haute énergie destiné à la production de semi-conducteurs et de microélectroniques. Il est conçu pour des applications où la dose d'implant, l'énergie et la fluence des ions doivent être étroitement et précisément contrôlés. VIISion 80 permet l'implantation ionique d'une grande variété de matériaux avec une variété de configurations de faisceau, avec une excellente uniformité et répétabilité. VARIAN VIISion 80 utilise un canon à électrons parallèles à tétrode et un dispositif cathodique à faisceau divisé, pour délivrer jusqu'à 80kW d'énergie d'implantation ionique. Le canon fonctionne à une énergie neutre de 5-200 kV et fournit un maximum de 15mA courant de faisceau. Le canon est capable de délivrer des ions allant de 2 à 254 amu, avec une gamme d'énergie de 100 keV à un maximum de 80kV. La taille du faisceau d'ions peut être configurée entre 0,3 et 1,0 mm. L'équipement dispose d'un module de puissance de grande capacité qui offre des capacités d'implant fiables, répétables et très précises. Il offre également des profils d'implant personnalisables par l'utilisateur, permettant des opérations d'implant ionique optimisées. Le système comprend un contrôle du courant du faisceau de balayage qui permet d'obtenir des résultats d'implants reproductibles et uniformes. VIISion 80 dispose également d'une unité de surveillance unique qui permet de mesurer et de contrôler le courant de fond, les performances de la chambre, le courant de faisceau et l'uniformité des implants. Cette machine de surveillance est essentielle pour assurer des opérations d'implants de haute précision et reproductibles. L'outil de moniteur offre de nombreux autodiagnostics qui alertent les opérateurs de toute anomalie ou erreur. Enfin, VARIAN VIISion 80 est conçu avec la sécurité en tête, avec un atout d'entretoisement de sécurité qui bloque l'accès aux composants haute tension ainsi qu'une connexion de masse pour une sécurité électrique adéquate. Le modèle contient également plusieurs composants matériels et logiciels qui sont conçus pour assurer un fonctionnement fiable et réduire le risque de blessures. En conclusion, VIISion 80 est un implant ionique très précis, capable de délivrer des ions sur un large éventail d'énergies et d'utiliser un équipement de surveillance unique pour assurer des opérations répétables et uniformes des implants. Le système est conçu pour être simple à utiliser, mais très fiable et sûr. Avec son alimentation électrique de pointe, VARIAN VIISion 80 est bien adapté à la production de semi-conducteurs et de microélectroniques.
Il n'y a pas encore de critiques