Occasion VARIAN VIISion 80 #9065690 à vendre en France
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Vendu
ID: 9065690
High current ion implanter, 8"
Enhanced End Station
Includes:
Software version: Ver 5.00.00
Gas box: HP Gas box
Turbo pump:
Ion source (1800A)
E/S: V300HT
(2) Beamline: V1001
Dry pump:
Terminal: Edwards iQDP80
Chamber: iQDP80
Gas bottle #1: Ph3 - SDS
Gas bottle #2: AsH3 - SDS
Gas bottle #3: BF3 - High pressure
Gas bottle #4: Ar - High pressure
W/H: N6
Software: Memory upgrade
LEB Kit: Yes
DISC: Hook site
Cryo pump: (4) 250F CTI
Load lock pump: V300HT
Compressor: CTI 8500
Wafer handler: Enhancement type
Main monitor: LCD
Exhaust box: Duct box
Source head: Bernas
Filter +/- 7ª
Exhaust
Signal tower
Currently de-installed and stored in warehouse
1995 vintage.
VARIAN VIISion 80 est un implant et un moniteur ionique haute performance conçu pour fournir des résultats supérieurs dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. L'équipement utilise un système de faisceau avancé qui fournit un contrôle de dose précis et répétable. VIISion 80 est capable d'implanter des ions dans des plaquettes de silicium avec une fréquence et une précision élevées. Il comprend une large gamme de fonctionnalités qui permettent à l'utilisateur d'ajuster rapidement les paramètres pour une grande variété de processus. VARIAN VIISion 80 est construit autour d'une unité d'imagerie haute résolution qui offre une excellente répétabilité et une précision de 6 σ. La machine d'imagerie dispose d'une gamme dynamique élevée qui permet un contrôle très précis du faisceau d'ions dans diverses applications. De plus, l'outil est capable d'effectuer des manipulations de fréquence à large portée pour une grande variété de dispositifs semi-conducteurs. VIISion 80 dispose d'un atout de livraison de faisceau robuste et efficace, permettant une large gamme d'implantations. Il peut implanter des ions à des vitesses élevées avec une excellente précision et répétabilité. Le modèle utilise une gamme dynamique d'énergies ioniques pour s'assurer que les ions appropriés sont implantés aux bons endroits. VARIAN VIISion 80 comprend un équipement de surveillance sophistiqué et très sensible qui permet de surveiller avec précision les paramètres du faisceau et du dopage. Le système peut analyser le taux d'implantation, le débit de dose, l'angle du faisceau, l'angle de la plaquette et d'autres données. L'unité de surveillance peut également détecter les dommages subis par les substrats de bas niveau, ce qui permet à l'utilisateur de réagir rapidement à tout problème de processus critique. VIISion 80 dispose également d'une machine de traitement et d'analyse de données sophistiquée qui permet un haut niveau de précision et de contrôle. Il comprend des fonctions avancées d'analyse des données statistiques et permet à l'utilisateur d'ajuster rapidement les paramètres pour une grande variété de processus. En outre, VARIAN VIISion 80 comprend un logiciel avancé pour le calcul des doses d'implantation, permettant des implantations plus précises. VIISion 80 est une solution puissante et rentable pour la mise en œuvre réussie de l'électronique semi-conductrice avancée. Ses systèmes d'imagerie, de délivrance de faisceaux et de surveillance très précis lui permettent de fournir des implants de précision avec des résultats exceptionnels. Ses outils polyvalents de traitement et d'analyse des données en font un excellent choix pour tout procédé de fabrication de semi-conducteurs.
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