Occasion VARIAN VIISion 80 #9181390 à vendre en France
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Vendu
ID: 9181390
Ion implanter, 8"
Vacuum pump:
Terminal dry pump type: terminal, Edwards iQDP80
Chamber dry pump type: terminal, Edwards iQDP80
L/L dry pump type: V300HT
Gas system:
Gas / Connection Type
Gas channel #1: AsH3 gas SDS, 3.4L high pressure
Gas channel #2: PH3 gas SDS, 3.4L high pressure
Gas channel #3: Ar gas high pressure, 3.4L high pressure
Gas channel #4: BF3 gas high pressure, 3.4L high pressure
PFG gas: Xe gas CGA580
Utility:
Supply type: bottom
Compressor: CTI 8500
Wafer handler: enhancement type
Main monitor: LCD
Exhaust: duct box
Source head: Bernas
Tilter +/- 7 degrees, signal tower
Missing parts:
L/L chamber turbo pump
Elevator3 digital I/O PCB
(4) Chamber cryo pumps
Disk assy
Source turbo controller
E/S controller CPU boards
Source turbo pump
1995 vintage.
VARIAN VIISion 80 est un implant ionique et un moniteur conçu pour la production de matériaux ionisés et la surveillance des processus d'implantation ionique. C'est un outil utilisé pour traiter un large éventail de profils de dopage conçus pour des applications multiples, des matériaux semi-conducteurs courants aux semi-conducteurs composés avancés. De plus, VIISion 80 offre des débits, une précision et une précision inégalées pour un contrôle optimal du processus d'implantation ionique. VARIAN VIISion 80 est composé de deux composants distincts : le générateur de faisceau d'ions et la console de commande. Le générateur de faisceau d'ions est une source d'ions à faible perte, très fiable, à faible bruit et à faible vibration qui rend le processus d'implantation d'ions extrêmement fiable. Cette source d'ions est capable de générer un faisceau d'ions quasi continu suffisamment stable pour permettre un contrôle exact de l'implant. La console de contrôle est le centre de commande et de contrôle de l'implant et est responsable du contrôle, de la surveillance et de l'exécution du processus d'implantation. Il se compose d'une interface graphique utilisateur intuitive (UI) et de contrôleurs logiques programmables (PLC) qui permettent à l'utilisateur de contrôler les paramètres de l'implant, de surveiller le processus d'implantation et de stocker les résultats pour un examen ultérieur. VIISion 80 offre à l'utilisateur un contrôle maximal des processus avec des techniques de fabrication de pointe et une instrumentation sophistiquée. Pour garantir la plus haute qualité et la plus grande précision d'implantation, VARIAN VIISion 80 utilise une technique à sources multiples pour améliorer la stabilité du faisceau et la précision et la répétabilité inégalées de la posologie de l'implant. La technique des sources multiples améliore également la durée de vie de la source ainsi que la fiabilité globale du processus. VIISion 80 offre également une excellente sélectivité des implants ioniques, permettant d'ajuster finement les profils de dopage avec une large gamme de régimes de dopage. Cela offre à l'utilisateur une flexibilité et un contrôle sans précédent sur ses processus implants. VARIAN VIISion 80 est également capable de délivrer un faisceau à haut courant avec un courant maximal de faisceau allant jusqu'à 3.5A. De plus, l'interface de la console de commande permet de contrôler en temps réel les courants de faisceau et les niveaux de tension. En conclusion, VIISion 80 est un implant et un moniteur ionique de pointe conçu pour fournir un contrôle et une précision de processus maximum avec une précision et une répétabilité inégalées. VARIAN VIISion 80 offre des fonctionnalités telles que la technique de source multiple et la livraison de faisceau à haut courant qui garantissent une flexibilité et un contrôle maximum sur le processus d'implantation. De plus, l'interface intuitive de la console de contrôle permet un contrôle, une surveillance et une révision faciles des implants.
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