Occasion VARIAN VIISion 80 #9212872 à vendre en France

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ID: 9212872
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1997
Ion implantation system, 8" Vacuum pump EDWARDS iQDP80 Terminal dry pump type EDWARDS iQDP40+QMB250 Chamber dry pump type VARIAN tri scroll pump L/L dry pump type STP1000 Beam line turbopump#1 STP1000 Beam line turbopump#2 VARIAN V250 L/L turbopump (4) CTI, 250F Process chamber cryopumps (2) CTI, 9600 Cryopump compressors Gas system / Gas / MFC Type Gas channel#1 / AsH3 Gas / SDS Gas channel#2 / PH3 Gas / SDS Gas channel#3 / Ar Gas / High pressure Gas channel#4 / BF3 Gas / High pressure PFG gas / Xe Gas / High pressure Memory upgrade CVCF option Wafer size: 200mm Main CB: 90 Amps CVCF CB: 50 Amps Auto disc angle motor Host used, SECS Source head type: Dual bernas Faraday system: Magnet bias, PFG Throughput(WPH): N6 Disc site type: Hook site, 13Sites Elevator type: Modified 26 Lower slide pin Laser align kit: No W/H align kit: No Utility Supply type: Bottom Remote pallet Power: 208 Vac 3 Phase 5 wire, 50/60Hz, 35 kVA Water: 40~100psi Air: 90~125psi PN2: 50~100psi GN2: 50~100psi Exhaust: 1600cfm 1997 vintage.
VARIAN VIISion 80 est un implant et moniteur ionique haut de gamme capable d'implanter et de surveiller des circuits intégrés et autres dispositifs semi-conducteurs. Il est conçu pour fournir une précision et des performances supérieures lorsqu'il s'agit d'implanter des ions, permettant aux utilisateurs d'atteindre des concentrations de dopage exactes et des profils de surface souhaités sur les matrices. La technologie de pointe de VIISion 80 et l'interface utilisateur intuitive permettent même à un personnel inexpérimenté d'acquérir une compréhension immédiate de l'équipement, ce qui leur permet de modifier rapidement les paramètres pour ajuster les différents substrats. VARIAN VIISion 80 dispose d'une gamme impressionnante de caractéristiques de précision et de sécurité qui augmentent la précision, la sécurité et l'efficacité de l'implantation ionique. La source d'ions fournit un motif uniforme d'ions de haute énergie, assurant un implant cohérent pour chaque plaquette, tandis que les dosemètres automatisés surveillent et ajustent l'intensité du faisceau selon les besoins. VIISion 80 est également livré avec un système d'étalonnage optique à deux zones, qui assure un impact précis et précis du substrat. Enfin, la machine de surveillance électronique avancée de l'unité assure la précision de l'implantation. L'outil contient un certain nombre de composants et de caractéristiques qui le rendent capable de résister aux rigueurs de l'implantation ionique. Il est capable de transmettre des ions jusqu'à 20keV et le faisceau peut être étalé jusqu'à 20mm sans détérioration significative des performances de l'implant. La fenêtre optique en quartz de l'actif a été développée pour des conditions environnementales extrêmes, et sa chambre à vide a une vaste gamme de pressions. Les lampes multiples du modèle assurent un éclairage uniforme, quel que soit le type et la taille de la plaquette. VARIAN VIISion 80 est un équipement de surveillance sophistiqué qui suit continuellement le processus et le statut de l'implant, permettant aux utilisateurs d'apporter des changements en fonction des informations présentées. Le système est également capable de fournir un large éventail de rapports et de graphiques pour offrir une analyse et un examen détaillés du processus d'implantation. Dans le cadre du paquet de surveillance, le compteur d'ions avancé de l'unité fournit un nombre précis d'ions implantés en temps réel, permettant aux utilisateurs d'éliminer les devins et les calculs manuels. Dans l'ensemble, VIISion 80 est un implant et un moniteur ionique exceptionnel qui contient de nombreuses fonctionnalités avancées qui permettent aux utilisateurs d'obtenir des résultats précis et précis avec des temps de traitement et des coûts considérablement réduits. Son interface intuitive permet aux utilisateurs de tout niveau d'expertise d'obtenir rapidement une prise en charge de l'implantation et des réglages ioniques, ce qui permet au personnel expérimenté du bénéficiaire de faire les ajustements nécessaires en temps opportun. Le rendant idéal pour les applications industrielles à grande échelle de semi-conducteurs.
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