Occasion VARIAN VIISta 3000HP #9203292 à vendre en France
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Vendu
ID: 9203292
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2005
High energy implanter, 12"
Energy range: 10 keV to 3750 keV
Voltage divider
Base system
Power Distribution: 60 Hz
Solid state: 0.75 MV D.C.Tandetron(TM)
Accelerator provides:
High output tandem NSI power supply
ASME/TUV Certified accelerator pressure vessel
VIISta single wafer processing end station with integral orientation control 0º- 360º at +/-1º accuracy
Precise control of tilt angle combined with fast recipe controlled stepped tilt modes up to +/- 60º at
An accuracy of +/- 0.1º
Gas cooled electro-static platen
Vertical scanning using linear servo motor driven
Industrial air bearing
Dual wafer capacity: 25
Polished load-locks with independent vacuum control
Load lock: 300 mm
Automatic pumping system includes:
VARIAN Triscroll 300 dry pump for the air-bearing differential seals stage One
Diaphragm roughing pump for the air bearing differential seals stage two
Venturi pump for the air-bearing differential seals stage three
(5) HELIX cryo pumps
(3)400mm HELIX standard capacity cryo pumps on the process chambers
(2) 250F HELIX high capacity cryo pumps located on beamline
(2) PFEIFFER TMH-261 turbomolecular pumps for the end station load locks
Turbomolecular pumping system consisting of:
PFEIFFER TPH 2101 for the source
(2) PFEIFFER TPH 2101 Pumps for the beamline locations
Remote pump kit:
To locate two cryo compressors
DI water system
Remote power distribution system includes
Standard and included in base system: 15 meters
Base system does not include roughing pumps
VARIAN VIISta control system
Microsoft windows NT(TM)/Windows 2000(TM)
Multitasking operating system
Next generation software control system monitoring over 3500 implant
Equipment parameters for optimal system performance
Automatic recipe set-up
Optimization
Control
Production scheduling
WIP Tracking
System diagnostics
Single wafer data logging
HSMS
SECS / GEM Compliant
Multilevel password protected security system
SPC Capability
Small WIP buffer with 4 load ports
Toxic gas box including:
Standard inert gas module
Exhaust connections from the top
source
(3) Standard process gas modules
(3) manometers
(2) exhausts
(5) Gas modules plus Inerts
(3) Plus Inerts are supplied as standard
Long life indirectly heated cathode ion source
Differentially pumped ion source chamber
System S2-93
CE Compliance
High voltage warning displays
3 Locations
System signal tower
Telemechanique
(3) Lights:
Green
Amber
Red
Un-interruptible power supply (UPS) to support control system
platen
EMO Interlocked vesda smoke detection system
Source exhaust flow interlock
Integrated weight handling tools
EMO Safety interlock
Lead floor not required
Required selects
Standard power kit: UES
Standard frequency kit: 60 Hz
Facilities from top
Signal tower: 3 Light standard RYG
Standard gas box internal process / External purge
Gas box exhaust from the top
HP Ar / N2 DISS 718
HP BF3 DISS 642
SDS PH3 VCR 1/2"
SDS AsH3 VCR 1/2"
Standard on tool chiller
Phase 2 IHC source without vaporizer
HELIX standard cryo kit: 400
Standard polyflow cryo exhaust
Customer supplied pumps to VSEA - Edwards iH-80
VSEA Supplied pfeiffer turbo pump kit
Load lock vent standard finish
Vent connection standard finish
High voltage warning display
Remote connection kit standard cryos: 15 Meters
(3)Anometer
gauges 0: 1kPa
Monitors exhaust pressure of the main gas box
Source shroud
Rough pump
Standard UPS
V3000 Factory automation kit: Micron
Includes indicator control kit
E11134600
Hermos integration kit
E11139470
Hokuyu E20000323 x 4
Vacuum connections from the bottom
Thru-beam wafer mapping
Installed Options:
Wafer viewing and wafer Id
SW - SEMI E58 ARAMS compliance
HP BF3 DISS 642
Graphite kit metals reduction
Service monitor PC
Modification in 2009:
V-Mask II upgrade kit
Roplat: 300MM
NCS Computer kit
Modification in 2013:
VIISta 3000 S/N ES154017 upgrade
E11451460 2Ghz Control system
UES
NCS
IAN
Dose controller eprom kit for medium current implanters
E11408090 for EHP dose contrllers
E11436450 for XP/XPT
Dose controllers reference PSB3312L EHP dose contrllrs
PSB3651-XP/XPT dose contrllrs
2005 vintage.
VARIAN VIISta 3000HP est un équipement avancé d'implantation d'ions utilisé pour l'implantation et l'analyse d'ions dans des substrats tels que des plaquettes semi-conductrices ou du verre. Ce système est composé de plusieurs composants qui lui permettent de fonctionner avec une grande précision. La ligne de faisceau VARIAN VIISTA 3000 HP commence par la source d'ions, où un faisceau d'ions est généré, manipulé et focalisé. La source d'ions peut être soit un évaporateur métallique, soit une source d'oxyde métallique comme le titane, le zirconium ou le baryum, soit un canon à ions à émission de champ. Après avoir formé le faisceau initial, la ligne de faisceau traverse alors les composants optiques du faisceau, y compris l'analyseur de masse et l'ouverture finale, pour la commande du faisceau ainsi que le réglage d'énergie. VIISta 3000HP comprend une variété de chambres d'analyse et d'implantation. Les chambres d'analyse permettent la séparation isotopique, tandis que la chambre d'implantation, compatible avec le vide, permet à la fois d'implanter des ions dans un substrat et de contrôler l'homogénéité des doses. D'autres caractéristiques de l'unité comprennent une source de plasma à couplage capacitif ou inductif (IPC) robuste, qui assure une implantation stable et rapide tout en permettant des capacités d'implantation à faible énergie et à ion unique. VIISTA 3000 HP est également équipé d'une gamme complète de périphériques, y compris une installation 1kV, un transformateur de courant à quatre canaux, un papillon et un moniteur de courant ionique. Il comprend également un préposé robotique entièrement automatisé. Tous ces composants travaillent de concert pour assurer des performances d'implantation répétables et précises. VARIAN VIISta 3000HP est à la pointe des technologies d'implantation, permettant un contrôle dopant précis avec des capacités de machine conviviales et flexibles. Cette machine de pointe fournit une implantation haute performance avec une faible énergie, minimisant les dommages causés par le bombardement ionique tout en maintenant des taux d'implantation élevés. Il dispose également d'un outil de contrôle avancé qui offre aux utilisateurs des recettes programmables et des paramètres pour les processus automatisés. En utilisant les dernières technologies, VARIAN VIISTA 3000 HP offre l'un des systèmes d'implantation les plus fiables et les plus cohérents disponibles.
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