Occasion VARIAN VIISta 3000HP #9210718 à vendre en France

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ID: 9210718
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2005
Ion implanter, 8" Main circuit breaker: 225 AMP Maximum beam energy: 3,750 KeV Exhaust flow rate: 21~24 m³/min PCW: Input: 60~ 100 PSIG 60~ 100 PSIG Flow rate: 20 GPM Input temperature: 16~19°C Pressure: N2: 55~100 PSIG Ar: 50~100 PSIG Air: 90~100 PSIG Implant dose accuracy: Dose range: 5E10 to 1E16 ions/cm² Uniformity: 1s < 0.5% Repeatability: 1s < 0.5% (Wafer-to-wafer, cassette-to-cassette) Beam parallelism: < 0.5° in X & Y Axis Ion mass resolution: M//DM > 80 Throughput: 250 wph Wafer breakage: 1:100000 Process angles wafer tilt: -60° to +60° Programmable in 1° steps Accuracy: ±0.5° -25° to +60° (Roplat) Pumping line: Under roof Source head type: Bernas Wafer orientation: 0° to 360° (Programmable in 1° steps, accuracy ±2°) Recipe-controlled stepped wafer rotation Particulate control: Front side: < 0.15 particles added/cm² at > 0.16mm particles Vacuum pump: Turbo pump: STP1003 Cryo pump 1: 250F Cryo pump 2,3,4: 400 GAS Box: Ar High pressure / Internal AsH3 Cylinder type: SDS PH3 Cylinder type: SDS BF3 Cylinder type: SDS Gas line purge End station module: Wafer handler platform type: Standard Tilter type: Standard Faraday type: Standard Enclosure: Signal tower Smoke detectors Vacuum system: Source: Turbo pump type: STP1003 Rough pump type: KASHIYAMA SDE 90 Beam line: Analyzer turbo pump type: STP1003 Beamline turbo pump type: STP1003 Beam roughing pump type: KASHIYAMA SDE 90 Chamber: Chamber hi-vac pump: Cryo pump Cryo pump type: CTI 400 Cryo compressor type: CTI 9600 Loadlock Hi-vac pump: CTI400 Loadlock roughing pump: KASHIYAMA SDE 90 Includes manuals & drawing books Power: 208 V, 50/60 Hz, 3 Phase, 60 A, 4/5W 2005 vintage.
VARIAN VIISta 3000HP est un implant ionique polyvalent et performant pour les applications industrielles. Doté d'une conception robuste et durable, il est capable de fournir une large gamme d'énergies d'implants et de paramètres à gap fixe, permettant l'implantation précise et contrôlée d'une variété de matériaux. VARIAN VIISTA 3000 HP utilise une source haute tension pour générer un plasma de particules ionisées qui sont accélérées vers le matériau de l'échantillon. L'énergie et le débit des particules sont réglables, ce qui permet à l'utilisateur de contrôler avec précision l'énergie et les paramètres d'implantation. L'équipement de surveillance utilisant des techniques avancées de compensation des charges permet de contrôler et de réguler avec précision même les faibles énergies des implants. VIISta 3000HP dispose d'un large éventail de caractéristiques qui permettent l'implantation fiable et répétable de matériaux pour le prototypage, les matrices, les masques et d'autres applications industrielles. Il dispose d'une implantation de grande capacité qui peut accueillir de grands échantillons et substrats, avec des réglages réglables de l'espace et de la pression. Le système de commande est hautement programmable, ce qui permet à l'utilisateur d'effectuer des opérations de plusieurs façons, telles que le fonctionnement automatique ou manuel. VIISTA 3000 HP est équipé de deux lectures numériques indépendantes à 10 canaux pour la surveillance de la dose totale et du profil. Cela garantit que le processus d'implantation peut être suivi et ajusté pendant le processus d'implantation si nécessaire. La technique de la capacité de vide et de la rétroaction du courant du faisceau est utilisée pour compenser les instabilités du faisceau afin de maintenir une dose et un profil cohérents. VARIAN VIISta 3000HP est conçu avec un maximum de sécurité, avec une unité d'évacuation ionique, un bouton d'arrêt d'urgence et une protection contre la surcharge. La machine d'aspirateur assure un environnement pauvre en particules, tandis que les systèmes avancés d'anti-encrassement et de nettoyage protègent contre les impuretés pendant le fonctionnement. VARIAN VIISTA 3000 HP est un implanteur et moniteur ionique hautement fiable et reproductible, parfait pour les applications industrielles de volume moyen à élevé. Sa conception robuste et ses paramètres réglables en font un choix idéal pour des processus d'implantation précis et précis.
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