Occasion VARIAN VIISta 80 HP #9308896 à vendre en France
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Vendu
ID: 9308896
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2005
Ion implanter, 12"
IAN Computer, P/N: E11130730
NCS Computer, P/N: E11083873
End station:
Platform type: UES Buffer, P/N: E11138370
(4) BROOKS AUTOMATION Fixload 6 Loadports
BROOKS AUTOMATION DBM 2706 Buffer robot
(2) BROOKS AUTOMATION VAC-407-2A PRI Robots, P/N: E40001450
Graphite type: Air bearing, P/N: E19282790
Driven side type: Y-Tilt
Cassette platform, 12"
Thru beam type: Wafer mapping
Wafer walkout sensor
Wafer orienter, P/N: E11320430
Cassette sensor present
Platen, P/N: E11368067
Roplat type: Tilter head P/N: E11313830
Light curtain
Standard load locks
PRI Robot
Signal tower
Scan harness
Process module controller
Transport module controller
Source module:
Gas box, P/N: E11140710
IHC Source head
Manipulator
Part number / Gas stick
E11116732 / Gas1 (Removed)
E11147261 / Gas2
E11147241 / Gas3
E11147251 / Gas4 (Removed)
E11116782 / Gas5
Beamline module:
70° Magnet PS
90° Magnet PS
Beamgate assembly, P/N: E11084141
Decel 1 PS
Decel 2 PS
Decel 1 suppression
Decel 2 suppression, P/N: E11326011
Quad 2 PS, P/N: E19283050
Ion source
Arc PS
Bias PS
Magnet PS
(2) Extraction PS
Extraction suppresion PS
70 and 90 Rod controller
Exhaust conductivity monitor
VESDA Smoke detector
Water leakage sensor
CVCF PD, P/N: E19009490
Process chamber module:
Angle cup, P/N: E11127951
Roplat kit
BROOKS AUTOMATION 354019-TD-T Vacuum gauge
(3) MKS 354019-TD-T Vacuum gauges
(2) EDWARDS STP-A2203C2 Turbo pumps
(1) EDWARDS SCU-1500 Source turbo pump controller
(1) EDWARDS SCU-1500 Beamline turbo pump controller
(2) PFEIFFER TMH-261 YPX Load lock pump
(3) GENESIS ICP 320 LQ Process chamber cryo
(2) GENESIS HC80 Cryo compressors
EDWARDS iQDP80 / QMB500 Endstation rough pump
EDWARDS iQDP80 / QMB500 Endstation diff pump
EDWARDS IGX100M Source rough pump
Main PD assy: Circuit breaker kit
Remote PD CVCF assy
HYNIX Remote rack
Lead floor
Service monitor
Bottom supply: Facilities and input power
Missing parts:
Controller mass flow, 0-3 SCCM, PH3, 4RA P/N: E23000350
Controller mass flow, N2 calibration 5 SCCM P/N: E23000101
AFFINITY PAA-003B-CE50CBD3 Platen chiller
(2) Manipulator controllers, P/N: E11290090
Advanced platen, P/N: E11368067
Dual PFG power supply controller assembly, P/N: E11092090
Quad lens, P/N: E11289020
Quad2 lens assy, P/N: E11320190
Isolation controller, P/N: E11106222
FILAMENT P/S, P/N: E19014140
LP2 ST32 Board, P/N: 013501-167-27
PFG Controller, P/N: E11092090
2005 vintage.
VARIAN VIISta 80 HP est un implant ionique multifonctionnel haute performance et moniteur de VARIAN Semiconductor. Cet équipement de pointe permet une implantation et une surveillance précises et fiables des plaquettes pendant le processus d'implantation ionique. Il est idéal pour la fabrication de circuits et de filières dans l'industrie des semi-conducteurs. VARIAN VIISTA 80HP utilise trois sous-systèmes intégrés pour le contrôle et la surveillance précise des implants : l'implant ionique, le moniteur et le contrôleur. L'implanteur ionique est un système à double axe monté sur table tournante avec un détecteur de fin de gamme. Cette unité est conçue pour fournir un contrôle précis de la posologie de l'implant en ajustant le courant, la largeur d'impulsion et le temps de rappel. La machine de surveillance permet aux utilisateurs d'observer le flux ionique pendant l'implantation. Il utilise un dispositif CMOS pour détecter l'impact d'ions sur la surface de la plaquette et signaler l'intensité du faisceau d'ions. Le contrôleur est programmé pour maintenir des paramètres d'implantation cohérents qui assurent une implantation uniforme dans chaque couche de la plaquette. VIISta 80 HP est capable de courir jusqu'à trois canons à ions en même temps, ce qui augmente le débit et améliore l'uniformité d'implantation. L'outil offre de la flexibilité avec sa capacité à gérer différentes énergies d'ionisation simultanément. Cette caractéristique améliore la sélectivité des implants et réduit les risques de contamination des implants. L'actif comprend un support de cible en oxyde d'aluminium anodique (AAO), un équipement de soufflage et une tête de grille, ainsi qu'un porte-échantillon permettant une implantation très peu endommagée. VIISTA 80HP convient à de nombreuses applications d'implantation ionique, y compris l'implant de contact de connecteur, la mémoire à transistor à couches minces, l'articulation de plaquettes pour les applications MEMS, les capteurs de pression MEMS, la structure de grille FET et la tranchée d'oxyde, et d'autres profils de haute précision. Il peut également générer des densités élevées de courant ionique et des niveaux de courant jusqu'à 80mA/cm2 avec des temps de réglage faibles avec son contrôleur de rétroaction linéaire de 200 étages et la manipulation à grande vitesse des plaquettes. Ce modèle est conforme au fonctionnement à source unique et à source multiple. VARIAN VIISta 80 HP est un équipement idéal pour des processus d'implantation et de surveillance de teintures fiables et abordables. Ses caractéristiques de pointe réduisent le temps de travail et améliorent la qualité et l'uniformité des résultats. Ce système est particulièrement avantageux pour les entreprises qui recherchent une qualité de traitement rapide mais précise avec une cohérence et des temps de cycle supérieurs.
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