Occasion VARIAN VIISta 80 #178078 à vendre en France
Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.
Appuyez sur pour zoomer
Vendu
ID: 178078
High current ion implanter, 8"
Energy : 200eV to 80KeV
Bernas Source with 5 Gas Stick - 90D Magnet Module and Gas Box Module
Beam energy probe for D1 & D2 Module - 90 D Magnet Module and 70D Magnet Module
High Resolution 90 D analyzer magnet - 90D analyzer magnet & Rods (10EA)
70 D magnet module providing uniformity & parallelism control, plus energy filtering - 70D Analyzer Magnet Multipoles(11EA) & Upper Rods(12EA), Low Rods(12EA)
Profile Faraday to ensure uniform beam current distribution - Indirect Drive Profiler Assembly (Need to Upgarde, In-Vac Profiler or Rack and Pionion)- End Station Module
Multiple Faraday systems for beam angle measurement & real-time monitoring - Dose Cup (Samping Cup) - End Station Module
Recipe interlockable incident angle control system - End Station Module
Dual plasma flood gun system - End Station Module
Gas Box with 5 Gas Stick - Gas Box Module
CES End-Station - End Station Module
End station with orientation control 0~360 degree at +/- 1 degree accuracy - End Station Module
Tilter-C Platen - End Station Module
Precise control of tilt angle at +/- 0.1 degree accuracy - End Station Module - X tilt
N2 Gas +Water Cooled electro-static platen , with 1KW or 2.4KW Chiller - End Station Module - Excluded Chiller Assembly only.
Vertical scanning using linear servo motor driven, industrial air bearing - End Station Module
Dual 25 wafer capacity, equipped for 200mm wafer sizer operations - End Station Module
(3) CTI Cryo-Torr 8F cryo pump at process chamber - End Station Module
(2) PFEIFFER TPH2101UPC DN 250 ISO-K, 3P - Source & Beamline Turbo Pump - Included 90D Magnet Module and 70D Magnet Module each.
(2) Loadlock Turbopump - Varian 300HT and Pfeiffer - End Station Module
(2) Alcatel ADS501 Roughing Pump - Source, Edwards Roughping Pump - E/S
(2) Varian TriScroll Pump and Varian Membrane Pump - Included Tool Control Rack Module
Module Division:
Gas Box Module
Facility Module -208V, 3P, 5W, 50KVA with UPS
90D Magnet Module
70D Magnet Module
Source Control Module with Source Isolation Transformer
Tool Control rack Module
End Station Module
Parts:
90D Waveguide
70D Waveguide
Profiler Assembly
Source Dry Pump - Alcatel: ADS501
E/S Dry Pump - Edwards
Chiller Assembly (Affinity 1KW or 2.4 KW)
D.I. Water Pump Assembly with Filter
Service Monitor Assembly
(2) Compressor Assembly (9600)
(13) Door Assemblies (Right: 5EA, Left: 5EA, Rear:2EA, Inside Center: 1EA)
Door Lead Panel Assemblies
Roof Lead Panel Assemblies
Roof Beam Assemblies
Door Post Panel Assemblies (Frame)
Roof Post Panel Assemblies (Frame)
(2) CTI Cryo Pump - Excluded for cleaning the Chamber of E/S from E/S Module
(2) Gate Valve and Housing - Excluded for cleaning the Chamber of E/S from E/S Module
Lead Floor Assemblies
D2 Lens Assembly
Lelium Line
MISC Parts (miscellaneous)
Currently crated and stored in a warehouse
2000 vintage.
VARIAN VIISta 80 est un implant et un moniteur de pointe qui fournit une grande précision et une large plage de courant pour l'implantation ionique. Cet équipement offre une homogénéité et un contrôle de dose exceptionnels. Le produit est adapté à une grande variété d'environnements de production et adapté aux processus les plus exigeants. VIISta 80 offre une excellente uniformité du courant du faisceau, une large gamme dynamique et une ondulation du courant du faisceau faible pour un contrôle de dose optimal. Le courant du faisceau peut être réglé de très faibles à très hautes énergies avec une grande dynamique allant de 1 μ A à 200 mA. La haute résolution de courant de 1 nA permet un contrôle précis de l'énergie pour une meilleure précision de dose. VARIAN VIISta 80 offre une grande flexibilité, permettant diverses combinaisons de composants formant faisceau. Le système est capable de produire des implants à courant très uniforme, extrêmement élevé, à faible ondulation de courant de faisceau et à faible diffusion d'énergie, permettant un meilleur contrôle de précision de la dose d'implant. La conception de l'unité flexible permet également de personnaliser facilement la collimation du faisceau et l'optimisation du profil. VIISta 80 utilise une machine de contrôle de rétroaction numérique pour maintenir une précision et une stabilité optimales du courant du faisceau. Cet outil surveille et ajuste continuellement le courant du faisceau en fonction de l'entrée d'un moniteur externe d'implant ionique. Cet atout permet également le diagnostic, le réglage fin et la détection automatique des pannes. VARIAN VIISta 80 combine les dernières avancées en matière d'implantation ionique avec une électronique de pointe et un logiciel sophistiqué et éprouvé. Le logiciel offre un ensemble complet de fonctionnalités, y compris la configuration expérimentale, l'analyse d'échantillons et l'enregistrement des données, ainsi que des paramètres de contrôle du courant du faisceau et du contrôle de la dose et du réglage de la tension de précision. Dans l'ensemble, VIISta 80 est une plateforme puissante et fiable pour les processus de recherche et d'implantation de production. Le modèle présente une excellente uniformité de courant de faisceau, une large gamme dynamique et une excellente ondulation de courant, ainsi qu'un haut degré de flexibilité qui permet des profils d'implantation personnalisés. Le produit dispose également d'un équipement de contrôle de rétroaction avancé et d'un logiciel sophistiqué pour une précision, une stabilité et une précision maximales.
Il n'y a pas encore de critiques