Occasion VARIAN VIISta 810 HP #9191582 à vendre en France
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ID: 9191582
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2002
Medium current implanter, 12"
Dosing performance:
Range: 1E11-1E16 ions/cm2
Uniformity: ≤ 0.5% (For implant energies > 5 keV)
Repeatability: ≤ 0.5% (Wafer-to-wafer, cassette-to-cassette)
Implant angles:
Tilter: ± 60° in X and Y
Orientation: 0 - 360°
Rotation: Equivalent multi-tilt, quad mode
Angle control accuracy and repeatability:
Beam parallelism: ± 0.1°
X and Y Tilter: ± 0.1°
Orientation: ± 1.0°
Wafer cooling:
200 mm: ≤100°C at 800W Beam power
300 mm: ≤100°C at 900W Beam power
Particles: <0.05/cm2 (Mean value) for particle size > 0.16 µm
Metals contamination:
Heavy metals: ≤ 5 ppm (TXRF)
Aluminum: ≤ 5 ppm (SIMS)
Implant condition: 80 keV, 1e16/cm2
Ion mass resolution:
Energy > 5 kV, M/ΔM = 30
Energy > 20 kV, M/ΔM = 50
Energy > 80 kV, M/ΔM = 85
Mechanical throughput:
200 mm: > 270 WPH
300 mm: > 250 WPH (With buffer and 25 wafer cassette, Steady-state)
2002 vintage.
VARIAN VIISta 810 HP est un implant ionique avancé et un moniteur conçu pour assurer un contrôle exceptionnellement précis du processus d'implantation. Cet implanteur est destiné à être utilisé dans les industries semi-conductrices et électroniques, et il est capable d'offrir des performances rapides, répétables et fiables. VARIAN VIISTA 810HP est alimenté par un puissant équipement d'entraînement et une sélection de logiciels propriétaires pour effectuer des opérations d'implantation avancées. Sa source haute tension sert jusqu'à 3 ampères de puissance d'implant, avec une plage de courant de faisceau sélectionnable de 2-500 µA. Ce modèle peut également accueillir en toute sécurité des températures allant jusqu'à 200 ° C, pour des opérations nécessitant des températures plus élevées. Cette implantation comporte également deux systèmes d'analyse de faisceau distincts, l'un mesurant le courant du faisceau et l'autre mesurant l'angle. Ceci permet des opérations d'implantation de grande précision et permet des procédés avancés tels que le dopage sélectif des émetteurs et l'implantation d'angle raide. En termes de performances, VIISta 810 HP a un excellent débit, atteignant un débit d'implantation pouvant atteindre 400 000 wafers par heure. Sa grande vitesse est en partie due à sa nouvelle conception de tampon corrosion traversant, qui empêche l'accumulation de particules et assure des implants de haute qualité. L'implanteur dispose également d'un système de surveillance à distance, permettant aux utilisateurs d'accéder aux données de l'instrument et d'effectuer des réglages à distance. Cette fonctionnalité permet également le diagnostic à distance pratique et la réparation de l'unité au besoin. Dans l'ensemble, VIISTA 810HP est une machine d'implantation avancée conçue pour fournir une précision d'implantation et un contrôle de qualité supérieurs dans les industries des semi-conducteurs et de l'électronique. Il dispose d'un fonctionnement haute tension, haute puissance et deux analyses de faisceau distinctes, ainsi qu'un outil de surveillance à distance et des débits impressionnants. Cet implant est sûr d'être un outil fiable et rentable pour toute opération d'implantation industrielle.
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