Occasion VARIAN VIISta 810Xer #9215997 à vendre en France

VARIAN VIISta 810Xer est un équipement d'implantation et de surveillance ionique de pointe qui offre un excellent contrôle du processus d'implantation ionique, permettant aux utilisateurs de créer facilement des technologies de pointe. Il est conçu pour être utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs et de MEMS, offrant une précision et une répétabilité élevées dans le processus d'implantation ionique. Le système est alimenté par une source d'ions avancée avec une large gamme de paramètres réglables, y compris le courant du faisceau, le niveau d'énergie, la taille des taches et d'autres paramètres. Cela permet aux utilisateurs d'ajuster facilement le processus d'implantation ionique pour créer des technologies qui répondent à leurs exigences exactes. En outre, il est équipé d'un détecteur d'ions qui est sensible jusqu'à 10A de courant, fournissant une excellente précision dans la surveillance du processus. L'unité dispose d'une interface utilisateur intuitive, permettant aux utilisateurs de surveiller et de contrôler facilement le fonctionnement à partir d'un seul écran. De plus, la machine comprend un outil d'acquisition de données en temps réel qui permet aux utilisateurs d'optimiser leurs paramètres d'implant sans avoir à les ajuster manuellement. En outre, il dispose également d'une interface graphique complète, permettant aux utilisateurs de visualiser le processus d'implantation sur un seul écran. L'actif est conçu pour une efficacité et une fiabilité maximales. Il dispose d'une chambre d'implant basse pression innovante avec une large gamme de température compatible, permettant aux utilisateurs d'effectuer des implantations à une large gamme de températures sans perte de performance. En outre, le modèle offre une suite complète de diagnostics d'équipement, permettant aux utilisateurs d'identifier et de dépanner rapidement toute défaillance de composants. VARIAN VIISTA 810 XER est un système d'implantation et de surveillance ionique haut de gamme offrant une précision exceptionnelle et des performances fiables. Avec sa source d'ions avancée et son unité de surveillance intégrée, il est idéal pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs et de MEMS, offrant un contrôle exceptionnel du processus d'implantation ionique.