Occasion VARIAN VIISta HCP+ #293650710 à vendre en France

VARIAN VIISta HCP + est un implant ionique de haute capacité et un moniteur conçu pour répondre aux besoins de l'industrie des circuits intégrés d'aujourd'hui. Utilisant une conception compacte, à faible vide, semblable à un accélérateur linéaire, VIISta HCP + est bien adapté à la production de dispositifs à haut volume. Il a été conçu pour fournir le meilleur contrôle de processus en classe, avec des systèmes de surveillance et de contrôle avancés qui permettent d'implanter des implantations de profondeur étroite et variable. L'équipement HCP + se compose d'un filament, d'une source d'ions et d'un amplificateur d'ions, d'un système d'accélération de trois électrodes, ainsi que d'une unité de contrôle et de contrôle. Un seul faisceau d'énergie uniforme est produit par la source d'ions, qui est ensuite amplifiée et accélérée par les trois électrodes, la tension étant réglable à toute énergie comprise dans la plage. La machine de surveillance et de contrôle permet aux opérateurs de prédire et de contrôler avec précision l'énergie des implants à un degré très fin, tout en fournissant une capacité diagnostique pour assurer un contrôle et une répétabilité complets du processus. Le contrôle du faisceau variable permet aux utilisateurs d'optimiser le courant du faisceau et la taille du spot pour répondre à leurs besoins de processus. VARIAN HCP + est une plate-forme exceptionnellement polyvalente qui peut être utilisée pour la gravure de plaquettes, l'implantation ionique et même la nanochirurgie. Il a un courant de faisceau élevé, une énergie de dôme large (produit des implants de différentes profondeurs) et peut contrôler les motifs de balayage de faisceau pour plusieurs implants sous tension. Le HCP + a été conçu pour soutenir la production d'IC de pointe, et son outil de surveillance et de contrôle de pointe lui permet de produire avec précision des implants de haut volume et uniformisés. Cet atout offre une flexibilité inégalée, permettant aux utilisateurs d'ajuster rapidement les instructions d'implant et de surveiller les performances en temps réel. C'est un choix idéal pour une gamme de processus de production IC et offre un rapport coût/performance inégalé qui est idéal pour les environnements de production à haut volume conscients des coûts.