Occasion VARIAN VIISta P2LAD #9372789 à vendre en France

VARIAN VIISta P2LAD
ID: 9372789
Low / Ultra low energy implanter.
VARIAN VIISta P2LAD est un équipement avancé d'implantation et de surveillance d'ions utilisé dans l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs. Il est utilisé pour implanter des niveaux très précis d'atomes dopants (impuretés) dans des structures semi-conductrices, qui sont ensuite utilisées pour créer des dispositifs tels que des transistors et des diodes. VIISta P2LAD offre une multitude d'avantages qui en font un excellent choix pour la production de produits semi-conducteurs avancés. Le premier avantage de VARIAN VIISta P2LAD est sa flexibilité. Le système peut être configuré pour différents types de procédés, tels que le verre phosphate, le silicium polycristallin, le silicium amorphe et les dispositifs en silicium. En outre, il est programmé avec des recettes particulières selon l'application, ce qui permet d'obtenir des résultats très précis et personnalisés. Deuxièmement, VIISta P2LAD dispose d'une unité TurboScan, qui ajoute plus de précision et d'efficacité. La machine TurboScan prend une série de scans pour détecter l'énergie de l'implant et la distribution angulaire de chaque concentration de dopant. Ceci permet une implantation encore plus précise des ions dopants. VARIAN VIISta P2LAD est également un outil fiable et robuste. Il est fabriqué avec des matériaux de haute qualité pour assurer un fonctionnement durable et des résultats toujours précis. En outre, l'actif est conçu pour un entretien facile afin de garantir son fonctionnement optimal. Enfin, VIISta P2LAD permet une surveillance complète des processus d'implantation. Il dispose d'un mode de « synchronisation dynamique » qui surveille et enregistre l'ensemble du processus, y compris la pression de la chambre, le courant du faisceau, la tension du faisceau et la température. Ce modèle de suivi complet permet un meilleur contrôle et des résultats plus précis. En conclusion, VARIAN VIISta P2LAD est un équipement avancé d'implantation et de surveillance ionique. Il dispose d'une flexibilité, d'un système TurboScan pour une précision supplémentaire, d'une construction fiable et robuste et de capacités complètes de surveillance des processus. Ces caractéristiques en font un excellent choix pour la production d'une grande variété de produits semi-conducteurs avancés.
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