Occasion VARIAN VIISta PLAD #9262785 à vendre en France
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Vendu
ID: 9262785
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2005
Ion source implanter, 12"
Single wafer pulsed plasma doping system, 12"
Includes:
Diborane RF process chamber, 12"
Small WIP buffer, 12"
BF3 Process chamber
DC Power supplies:
Pulse width: Up to 200 µs at 10 kV
Pulse frequency: Up to 10 KHz at 10 kV
2005 vintage.
VARIAN VIISta Plasma Implante rand Monitor est un implant ionique polyvalent et puissant et moniteur utilisé dans le domaine de la fabrication de circuits intégrés à semi-conducteurs. Il est capable d'implanter des ions dans des substrats avec une grande précision et précision, ainsi que de surveiller les paramètres d'implantation (tels que le courant de faisceau, la tension et la dose) avec des diagnostics in situ de pointe. VARIAN VIISta est équipé d'un étage de mouvement de coordonnées à cinq axes, permettant un alignement de faisceau de haute précision et un traitement continu des plaquettes et autres substrats. Un logiciel du secteur privé permet un contrôle précis des réglages des faisceaux, permettant aux utilisateurs de personnaliser le processus en fonction du type de dispositif semi-conducteur fabriqué. De plus, VARIAN VIISta dispose d'un générateur de plasma de 10 cibles, permettant à un large éventail d'espèces d'ions d'être implants d. Les diagnostics ioniques avancés sont intégrés directement dans la machine, y compris un analyseur de force de désorption multi-cibles, qui permet un suivi précis de la concentration de dopant et de la distribution de la profondeur d'énergie. De plus, un analyseur de propagation d'énergie fournit des spectres énergétiques très détaillés. Ce système de surveillance avancé permet aux utilisateurs d'obtenir des retours sur leurs paramètres d'implants et permet une optimisation et une modification afin d'obtenir un contrôle précis du processus d'implantation ionique. Avec sa source laser excimère, VARIAN VIISta est un outil extrêmement efficace pour l'implantation ionique sophistiquée, permettant une précision et une répétabilité sans précédent dans le processus de fabrication. Sa suite de diagnostics avancés et de contrôle logiciel permet aux utilisateurs de peaufiner le processus d'implantation ionique dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il fournit une plate-forme efficace pour les développeurs d'optimiser leur processus pour améliorer la vitesse, la précision et le rendement.
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