Occasion VARIAN VIISta PLAD #9284877 à vendre en France

VARIAN VIISta PLAD est un implant ionique et un moniteur conçu pour fournir un contrôle dopant avancé dans le traitement des plaquettes semi-conductrices. Dans la fabrication de semi-conducteurs, l'implantation ionique est une étape essentielle pour placer stratégiquement des ions de divers éléments dans le matériau du substrat, produisant différents niveaux de conductivité nécessaires à la fabrication de dispositifs semi-conducteurs complexes. VIISta PLAD est un équipement entièrement automatisé capable d'effectuer à la fois l'implantation ionique et la surveillance dans un seul module. Le système fournit des résultats précis, reproductibles, précis et rentables tout en fournissant des tailles de charge jusqu'à 4 "(100 mm) pour des exigences de production polyvalentes. Avec une énergie maximale de faisceau de près de 1 MeV, le VIISta est capable d'implanter des dispositifs complexes et de grande fiabilité dans une variété de substrats et de plaquettes. En outre, VARIAN VIISta PLAD offre une large gamme de paramètres et de capacités disponibles, permettant aux utilisateurs de personnaliser le processus d'implantation selon des exigences spécifiques. L'unité est alimentée par une machine de contrôle PC à plate-forme ouverte pour la mise en œuvre facile d'algorithmes spécialisés. Le VIISta dispose également de capacités avancées d'acquisition de données pour garantir des résultats optimaux. L'outil offre un choix de courants de faisceau allant de 1nA à 5mA et un débit de dose maximal sur 1x1013 ions/cm2/min. Toute la zone de travail de la VIISta est entourée d'un faisceau rigide en hexagone qui assure une protection optimale contre les fuites de vide. Un actif sous vide intégré fait circuler de l'air propre et filtré dans la zone de travail afin de réduire les niveaux d'impuretés pendant le traitement. Cela permet d'obtenir des résultats cohérents et fiables lors du dopage de différents substrats et plaquettes. Le VIISta est également équipé d'un paquet source d'ions avancé. Cela comprend une source hyperfréquence pour la génération d'ions et une grande sélection de gaz sélectionnables à partir de laquelle choisir. Le module source d'ions offre un contrôle programmable du courant du faisceau, de la forme et de la taille du spot pour chaque opération d'implant. VIISta PLAD est un modèle avancé d'implantation et de surveillance hautement adaptable qui offre une plus grande uniformité de dose et un meilleur contrôle des processus sur les autres systèmes disponibles. Il offre des capacités d'auto-paramétrage, assurant une caractérisation optimale des processus, ainsi qu'une grande variété d'options personnalisables, ce qui en fait un choix idéal pour le traitement avancé des plaquettes semi-conductrices.