Occasion FEI DualBeam 835 #9160371 à vendre en France

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FEI DualBeam 835
Vendu
Fabricant
FEI
Modèle
DualBeam 835
ID: 9160371
Taille de la plaquette: 8"
Dual beam Focused Ion Beam (FIB) system, 8" Automated loadlock Motorized rotary tilt stage: -5° to 55° Magnum ion column for fibbing and searching Ultra high resolution mode for SEM imaging Gas injection: Platinum Delineation etcher XeF2 Etcher Operating voltage: 500 V to 30 kV.
FEI DUALBEAM 835 est un système de broiement d'ion puissant qui combine un rayon d'ion concentré (FIB) et un balayage du microscope électronique (SEM). Ce système est utilisé pour l'imagerie, la nanofabrication et l'analyse des matériaux. La FIB fournit un faisceau large d'ions à haute énergie qui est ensuite magnétiquement focalisé sur un échantillon. L'échantillon est ensuite broyé à l'aide du faisceau d'ions, et le matériau généré peut être analysé avec le SEM. Les ions sont accélérés entre 10 et 70 kV, ce qui permet d'utiliser diverses stratégies de fraisage incluant la pulvérisation, la gravure au silicium et la gravure fine. Le système dispose également d'une variété d'outils qui peuvent être utilisés pour le procédé de fraisage, comme une source d'ions gallium, un canon à ions métal liquide gallium, et une source d'ions hélium. La poutre 835 est livrée avec un étage de carrelage motorisé puissant qui permet de fraiser des échantillons jusqu'à 100mm de diamètre. Cette étape est contrôlée par un comprimé, permettant un fraisage de précision et un alignement facile. Il dispose également de l'imagerie électronique biplan, qui fournit l'imagerie des caractéristiques topographiques et compositionnelles. La caméra intégrée fournit une résolution allant jusqu'à 0,5 nanomètres par pixel. Le faisceau FEI 835 propose également une variété de logiciels pour contrôler le faisceau d'ions, traiter les données et analyser les résultats. Il est compatible avec les systèmes d'exploitation Windows, Linux et Mac. Le faisceau 835 offre une combinaison puissante d'imagerie, de nanofabrication et d'analyse de matériaux pour la recherche et les applications industrielles. Son faisceau d'ions large, son étage de carrelage puissant et ses capacités d'imagerie haute résolution permettent à ses utilisateurs d'atteindre facilement une précision nanométrique.
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