Occasion FEI Helios NanoLab 400 #9232837 à vendre en France

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Fabricant
FEI
Modèle
Helios NanoLab 400
ID: 9232837
Style Vintage: 2009
Dual beam FIB system 2009 vintage.
Le FEI Helios NhouseLab 400 est un équipement de faisceau ionique concentré (FIB) optimisé pour les applications de fraisage, de dépôt et d'imagerie à l'échelle nanométrique. Il s'agit d'un système intégré basé sur le Field Emission Gun (FEG) utilisé pour la croissance contrôlée de couches minces, de matériaux diélectriques bas k et de nanostructures. L'unité combine un canon de fraisage à gaz inerte, équipé d'un moteur à grande vitesse, avec une chambre de fraisage qui est contrôlée en température pour des résultats optimaux du processus. Helios Nérabilité Lab 400 offre un haut degré de contrôle pour la production d'objets et de fonctionnalités avec une large gamme de dimensions. La machine permet la fabrication de nanostructures dans un large éventail de matériaux tels que métaux, semi-conducteurs, polymères et diélectriques. Sa plage de courant sonde est réglable de 0,1 pA à 400 nA, permettant une imagerie haute résolution avec une résolution latérale inférieure à 10 nm. Le FEI Helios NhouseLab 400 est équipé d'une optique d'imagerie haute résolution comprenant un microscope à faisceau d'électrons (EB), un détecteur secondaire d'électrons (SED) et un détecteur d'ouverture (AD). Le canon EB a une tension d'accélération maximale de 20 kV et peut détecter les électrons diffusés à grand angle et à petit angle. Le SED est fait d'une plaque d'aluminium, qui peut être utilisé pour l'imagerie d'électrons rétrodiffusés, d'électrons secondaires et d'électrons transmis. Enfin, l'AD fournit la capacité pour l'imagerie à faible angle, avec un champ de vision jusqu'à 0,5 μ m. Helios Nérabilité Lab 400 offre des fonctionnalités avancées pour la nanofabrication, comme le fraisage directionnel. Avec une gamme dynamique allant jusqu'à 500 keV, le fusil de fraisage permet l'acquisition d'images à haute résolution à l'échelle nanométrique de structures intérieures qui ne sont pas accessibles aux techniques d'imagerie classiques. Cette capacité est particulièrement utile pour fraiser à travers des caractéristiques tridimensionnelles complexes de composants, tels que des circuits intégrés, avec un degré élevé de précision et de précision. Le FEI Helios NhouseLab 400 fournit également des capacités avancées en métrologie des dépôts de couches minces et des dépôts. Le chauffage à l'étape, le double chauffage et la cartographie automatisée de l'épaisseur des couches minces sont tous disponibles, ce qui permet de contrôler avec précision l'emplacement et l'épaisseur des couches minces pendant le processus de dépôt. L'outil supporte également une gamme de procédés de dépôt multifonctionnels, tels que le revêtement conforme, le dépôt de couche atomique et l'électro-maille. Helios Nérabilité Lab 400 offre une plate-forme efficace et polyvalente pour la nanofabrication, le dépôt de couches minces et la métrologie. Sa combinaison d'imagerie haute résolution, de capacités de fraisage directionnel et de dépôt en couche mince permet la production de composants et de fonctionnalités de haute qualité avec une précision et un contrôle maximum du processus.
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