Occasion FEI Helios NanoLab 400 #9285570 à vendre en France

Le FEI Helios Nageusement Lab 400 est un équipement à double faisceau ER/FIB capable d'abrader avec précision les matériaux jusqu'à l'échelle nanométrique. Étalon or des systèmes à faisceau ionique concentré (FIB) et à faisceau électronique (EB), FEI Helios est un système de fraisage ionique très recherché. Profitant des sources simultanées d'électrons et de faisceaux d'ions, des caractéristiques puissantes telles que des environnements d'échantillons inclinés deviennent standard, ce qui élargit la capacité pour des scénarios d'ablation 3D plus complexes ; un accueil favorable pour les projets avancés en matière d'analyse et de science des matériaux. Offrant des résolutions exceptionnelles, amélioré sur d'autres systèmes de contrôle, le Helios Nondies Lab permet un meilleur contrôle x-y pour une clarté nette, permettant des applications de fraisage minutieuses et précises. En utilisant un chemin optique flexible, différents détecteurs peuvent être spécifiquement commutés pour optimiser les performances d'imagerie et l'expérience utilisateur. La spectrométrie de fluorescence à rayons X (XRF) de résolution atomique du Nfor Lab 400 permet une analyse rapide et non destructive des oligo-éléments. La précision de la frappe et la performance globale de l'abrasion font d'Helios NéterminLab 400 l'unité parfaite pour les chercheurs et les scientifiques effectuant l'usinage de précision de nano. Employant l'optique électronique ultra-stable pour des techniques qualitatives telles que STEM, l'Helios est habilitant pour les grands et les petits projets de recherche. En utilisant à la fois les faisceaux EB et FIB comme incrustation sur le même substrat, les microscopistes peuvent obtenir des résolutions plus élevées que jamais, ce qui permet une capacité de grossissement sans précédent d'un million de fois, selon la taille de l'échantillon. La machine Helios est très recherchée en raison de sa faible dérive et d'un outil avancé de contrôle et de calibration du faisceau qui permet des corrections quasi instantanées et une réactivité de résolution même lors d'un fraisage très énergique. Pour l'abrasion et l'analyse d'échantillons à haut débit, le FEI Helios Nérabilité Lab 400 offre des performances inégalées à partir de ses taux de résolution de la colonne double faisceau et de l'apex inférieurs à 1 nanomètre, ce qui en fait l'atout idéal pour des applications telles que la nanostructuration, la fraisage, l'imagerie et l'analyse.