Occasion FEI Helios NanoLab 400S #293729607 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 293729607
Style Vintage: 2010
Focused Ion Beam Scanning Electron Microscope (FIB-SEM)
Detectors: ETD, TLD, STEM
Omniprobe manipulator
Stage tilt: +60° / -3°
Stage rotation: +180° / -180°
EDS system: EDAX Apollo XL 30 mm²
PC
Keyboard
2010 vintage.
L'équipement de broyage ionique de FEI Helios NhouseLab 400S est un outil fiable et polyvalent pour la préparation de surfaces fines d'optiques transparentes, telles que le Si, le GaAs, le quartz et d'autres matériaux. Le système est constitué d'une chambre à ultra-haut vide blindée équipée d'une membrane ultra-plane servant de porte-substrat, d'une chambre de manipulation de poutre et d'un générateur. Il comprend également une étape de chargement et de positionnement des échantillons, ainsi qu'une source ultraviolette pour induire des couches photorésistantes ultra-violettes. L'unité de broyage ionique Helios NhouseLab 400S est capable d'utiliser des débits de pulvérisation élevés et des débits de dépôt faibles pour une grande variété de matériaux de pulvérisation/dépôt, et peut fonctionner dans des environnements à vide élevé et à vide faible. La machine est contrôlée par une interface intuitive et conviviale, permettant à l'utilisateur d'ajuster et de personnaliser rapidement le processus de fraisage pour chaque application. Outil de broyage ionique FEI Helios NhouseLab 400S utilise un faisceau d'ions pour graver le matériau indésirable d'un substrat. Les ions sont accélérés à haute énergie et dirigés vers le substrat. Le faisceau d'ions érode le matériau à une vitesse contrôlée, créant une couche mince qui peut être encore manipulée avec la lithographie du faisceau électronique ou d'autres techniques. L'actif est équipé d'un ensemble de détecteurs qui aident à surveiller les performances du modèle sur une base constante. L'équipement de fraisage ionique Helios NhouseLab 400S est capable de produire des caractéristiques extrêmement fines sur des substrats d'un diamètre allant jusqu'à 15 mm. De plus, il est capable de modeler des substrats avec des largeurs allant jusqu'à 10 cm. Le système peut fonctionner avec des couches de photorésist simples et multiples, et peut gérer une variété de taux de gravure et de profondeurs. Cela permet des applications électroniques flexibles telles que les interconnexions, les composants passifs et d'autres structures à pas fin. Finalement, FEI Helios NanoLab 400S l'Unité de Broiement d'Ion est facile à maintenir et opérer et peut être vite recalibrée pour satisfaire les besoins d'applications différentes. Avec ses capacités polyvalentes et sa fiabilité, c'est un choix idéal pour des processus de gravure très détaillés et précis.
Il n'y a pas encore de critiques