Occasion FEI Helios NanoLab 400S #9145584 à vendre en France

Le FEI Helios Nérabilité Lab 400S est un équipement de fraisage ionique utilisé pour vos applications les plus difficiles en nanosurfaçage. Il est conçu pour maximiser l'accès à la surface et fournir une précision et un contrôle sans précédent dans la fabrication de vos nanostructures et surfaces. La source d'ions de balayage Helios Nérabilité Lab 400S offre un contrôle et une résolution supérieurs tout en utilisant une variété de gaz, dont l'oxygène, l'azote, l'argon et leurs combinaisons isotopiques. Cela permet au Helios Nérabilité Lab de s'adapter instantanément et de fournir la polyvalence requise pour une variété de procédés de fabrication avancés de nano. Il dispose également d'une accélération avancée du balayage, avec des vitesses allant jusqu'à 15nm/s et un courant ionique allant jusqu'à 150 mA. Cette combinaison garantit que le procédé est à la fois fiable et répétable et permet le traitement personnalisé de nanostructures même les plus complexes. Le logiciel avancé du Helios Nérabilité Lab comprend un traitement d'image puissant, la reconnaissance de fonctionnalités et des capacités d'optimisation de trajectoire. Cela permet le contrôle et l'enregistrement automatisés des motifs, le contrôle de l'inclinaison et l'alignement automatisé des échantillons. Le système comprend également des capacités de nettoyage ionique à faible conductivité et de bombardement ionique. L'une des caractéristiques les plus notables du Helios Nérabilité Lab est sa compatibilité environnementale. L'unité est compatible avec une large gamme de gaz et est également équipée d'un régime sans plasma. Cela assure un impact minimal sur l'environnement et garantit que la machine peut être utilisée avec seulement un minimum de temps d'installation. En bref, la solution complète de fabrication et d'analyse de nanothrouilles de pointe est fournie par le FEI Helios Nérabilité Lab 400S. La combinaison de sa source d'ions scan, de ses algorithmes avancés d'imagerie et d'enregistrement, et de sa capacité à s'adapter à une large gamme de gaz, fait du Helios NWashington Lab un choix idéal pour des applications difficiles en nanosurface.