Occasion FEI Helios NanoLab 450S #9363521 à vendre en France
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ID: 9363521
Dual beam SEM System
Electron source: Schottky thermal field emitter
Ion source: Gallium liquid metal, 1000 hours
STEM Resolution: 0.8 nm
SEM Resolution: Optimal WD
0.8 nm at 15 kV
0.8 nm at 2 kV
0.9 nm at 1 kV
1.5 nm at 200 V with beam decleration
Coincident WD
0.8 nm at 15 kV
0.9 nm at 5 kV
1.2 nm at 1 kV
Ion beam resolution at coincident point:
4.5 nm at 30 kV
2.5 nm at 30 kV
Stages:
Flipstage with in-situ STEM Detector
Omniprobe sample extractor
5 Axis all piezo motorized
100 mm XY motion
Loadlock maximum, 3"
Sample types:
Wafer pieces
Packaged parts
TEM
Grids
Whole wafers, 4"
Maximum sample size: 80 mm diameter
User interface:
Windows GUI with integrated
SEM
FIB
GIS
Simultaneous patterning
Imaging mode
GIS:
Carbon
Tungsten
Platinum
Accessories:
Chiller – NESLAB ThermoFlex 900
UPS
SCS10i Pump
Landing voltage:
SEM: 50 V - 30 kV
FIB: 500 V - 30 kV.
L'équipement de fraisage ionique à double faisceau FEI Helios NécurLab 450S offre une combinaison unique de précision et de précision. Ce système offre un procédé de fraisage ultra précis adapté à la caractérisation avancée des échantillons. L'unité à double faisceau comprend une colonne de faisceau d'ions, un étage de microscope électronique à balayage en colonne (SEM) et une machine d'imagerie numérique à haute résolution. La colonne de faisceau d'ions présente un courant élevé, une énergie élevée et des ions à haute résolution, ce qui permet de fraiser un large éventail de matériaux et de profondeurs d'échantillons. L'étage SEM en colonne offre le balayage et l'imagerie de l'échantillon avec un grossissement élevé et une résolution sous-micrométrique. En outre, l'outil intégré d'imagerie numérique fournit à la fois l'imagerie in situ et l'imagerie post-fraisage de l'échantillon, y compris l'imagerie optique stéréo et la reconstruction 3D. Helios NanoLab 450S a un large éventail d'environnements de promotion complets et de traits. Il est équipé d'un étage de rotation d'échantillons pneumatiques pour le ramassage et le fraisage parallèle, d'un étage d'échantillons 20x avec manipulation manuelle fine, d'une palette de position automatisée pour le chargement des échantillons et d'une palette pour les carreaux d'échantillons personnalisés. L'actif fournit une résolution de position précise allant jusqu'à 0,5 μ m, et est capable de fraiser en grande surface et en champ profond. Il dispose également d'une chambre d'échantillonnage à pression variable qui permet un fraisage à basse dépression pour des précisions plus élevées à des tensions d'accélération plus faibles. De plus, le modèle comprend une source d'ions double, une source d'électrons haute intensité (HE) et un canon à électrons double extraction pour une déflexion optimale du faisceau de fraisage. Le FEI Helios NhouseLab 450S est conçu pour un large éventail d'applications industrielles et académiques, telles que l'analyse de défauts, la MEMS et la micro- et nano-fabrication, et la préparation d'échantillons pour le SEM, le TEM et la métallographie. Cet équipement fournit une solution de fraisage flexible et fiable pour diverses tâches de fraisage dans un large choix de matériaux. Il est conçu pour atteindre une productivité élevée avec des dommages de surface minimes, une répétabilité fiable et des niveaux élevés de fidélité structurelle.
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