Occasion GATAN 691 #293827744 à vendre en France

GATAN 691
Fabricant
GATAN
Modèle
691
ID: 293827744
Precision Ion Polishing System (PIPS).
GATAN 691 est un équipement de fraisage ionique de précision conçu pour la production de nanostructures. C'est la dernière offre de GATAN, Inc., un fournisseur leader de systèmes à faisceau d'ions focalisés (FIB), et combine les meilleures caractéristiques de leurs sources d'ions et systèmes d'implantation d'ions. 691 est capable de produire des nanostructures de haute précision qui peuvent être utilisées dans un large éventail d'applications. Il est capable de fraiser de très petites caractéristiques dans la gamme des nanomètres, ce qui le rend apte à travailler sur des matériaux tels que les semi-conducteurs, l'or et d'autres conducteurs. La chambre de fraisage de GATAN 691 est construite à partir d'un acier inoxydable ultra-purifié, qui fournit un faible niveau de contamination de fond pour un outil de fraisage propre. La source d'ions pour 691 est une source d'ions en métal liquide (LMIS). Cela permet des motifs broyés haute résolution avec une énergie très faible et des dommages minimes à l'échantillon. GATAN 691 est également équipé d'un détecteur d'ions et d'un panneau de contrôle pour surveiller et ajuster le processus de fraisage. La 691 est hautement automatisée, ce qui permet d'exécuter divers programmes automatisés sur le système, de gagner du temps et d'offrir un flux de travail simplifié aux chercheurs. L'unité est équipée d'une variété de programmes de contrôle de processus pour s'assurer que le processus de fraisage peut être adapté aux besoins de l'utilisateur. Pour effectuer le fraisage ionique, GATAN 691 nécessite une machine d'entrée et de sortie de gaz d'argon. Le gaz d'argon est utilisé pour vide la chambre et pour garder la chambre propre. En outre, 691 dispose d'un outil de fraisage d'ions assisté par plasma, qui aide à améliorer la stabilité du faisceau d'ions et à réduire l'érosion du faisceau d'ions. GATAN 691 est un outil puissant pour produire des nanostructures avec une très haute précision et d'excellents résultats. Sa faible contamination de fond, ses fonctionnalités automatisées et ses puissantes capacités de fraisage ionique en font un outil essentiel pour la recherche sur les semi-conducteurs et une variété d'autres dispositifs.
Il n'y a pas encore de critiques