Occasion MICROBEAM Nanofab 150 #9032282 à vendre en France
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ID: 9032282
Taille de la plaquette: 6"
Direct write ion beam lithography system, 6"
GDSII
Integrated laser position stage
Minimal beam spot size: 20nm
Energy: 4 -150 keV (300 keV double ionization)
ExB Mass filter
M/deltaM ≥ 50
Liquid metal ion sources: Ga, Si, Ge, In, Be, Au, As, B, Pd, Bi
Beam current density: Up to 5A/cm2
Computer controlled
Stepper motor driven substrate state: 165mm x 165mm travel
1 nm Resolution laser position monitor
Upgrade options available:
Advanced sub 10nm ion optics
Stainless steel system with 10 Pallet load-lock (6" wafer only)
8" wafer handling (2 pallet load-lock only)
General System Upgrade (GSU): Includes vacuum, computer, data handling software, interferometer
Ion sources: 5A/cm Ga, Si, Ge, In, Be, Au, As, B, Pd, Bi sources
Ion guns
Advanced Performance Gun (APG) and source.
MICROBEAM Nanofab 150 est un équipement de fraisage ionique utilisé pour créer des caractéristiques précises et complexes sur des surfaces de films minces et de matériaux de substrat uniformément. Il utilise un procédé de fraisage par faisceau d'ions - également connu sous le nom de gravure par faisceau d'ions - qui utilise un faisceau d'ions pour réduire physiquement le matériau existant ou le film mince. Le système fonctionne en introduisant un faisceau d'ions de haute intensité, généralement de l'Argon, dans un matériau substrat sous atmosphère basse pression. Les ions circulent en arc de la source à l'électrode à une tension déterminée. Les ions, lorsqu'ils entrent en collision avec le matériau, arrachent les électrons et abaissent ainsi le matériau uniformément ou avec des motifs prédéterminés selon les réglages de l'utilisateur. Les particules et les vapeurs de matière créées par le bombardement sont ensuite extraites de l'unité par une pompe à vide, ce qui n'assure aucun dommage potentiel au matériau du substrat. Les principaux avantages de la machine par rapport aux autres procédés de fraisage sont sa grande précision, sa flexibilité dans le choix des sources et sa capacité à supporter de nombreux matériaux de substrat différents. Le degré de précision qui peut être atteint par l'utilisation de cet outil est particulièrement utile pour les matériaux critiques ou pour la réalisation de caractéristiques aux formes complexes. De plus, selon les réglages, l'utilisateur peut également déterminer le niveau d'uniformité de l'ablation avec un certain degré de précision. Par exemple, l'utilisateur peut choisir différents paramètres tels que l'énergie ou la dose d'ions selon la taille et la forme de la fonction requise. Ainsi, l'actif peut être utilisé pour créer des caractéristiques de différentes formes, telles que des motifs rectangulaires, circulaires, coniques ou même en nid d'abeille, ainsi que des textures de différentes tailles. Le modèle Nanofab 150 offre aux utilisateurs un moyen très efficace et précis de graver les substrats et les films minces avec la plus grande précision et précision. Cet équipement est extrêmement flexible et personnalisable, permettant aux utilisateurs de contrôler la vitesse, l'énergie ionique et la puissance pour assurer une surface fraisée avec précision. En outre, sa grande précision le rend idéal pour une utilisation dans des matériaux critiques et la production de caractéristiques complexes et complexes.
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