Occasion MICROBEAM Nanofab 150 #9172653 à vendre en France

Fabricant
MICROBEAM
Modèle
Nanofab 150
ID: 9172653
Taille de la plaquette: 8"
Direct write ion beam lithography system, 8" GDSII Integrated laser position stage Minimal beam spot size: 20nm Energy: 4 -150 keV (300 keV double ionization) ExB Mass filter M/deltaM ≥ 50 Liquid metal ion sources: Ga, Si, Ge, In, Be, Au, As, B, Pd, Bi Beam current density: Up to 5A/cm2 Computer controlled Stepper motor driven substrate state: 165mm x 165mm travel 1 nm Resolution laser position monitor Upgrade options available: Advanced sub 10nm ion optics Stainless steel system with 10 Pallet load-lock (6" wafer only) 8" wafer handling (2 pallet load-lock only) General System Upgrade (GSU): Includes vacuum, computer, data handling software, interferometer Ion sources: 5A/cm Ga, Si, Ge, In, Be, Au, As, B, Pd, Bi sources Ion guns Advanced Performance Gun (APG) and source.
MICROBEAM Nanofab 150 est un équipement avancé de fraisage ionique conçu pour traiter des surfaces extrêmement petites et sensibles avec une précision extraordinaire. Le système utilise un faisceau ionique focalisé qui est envoyé à travers une colonne pour délivrer le fraisage de niveau atomique et la gravure des matériaux jusqu'au niveau sub-micron. Ce processus est entièrement automatisé, ce qui signifie qu'il nécessite une intervention minimale de l'utilisateur pendant le processus d'exploitation. L'unité se compose de trois éléments principaux : le canon à ions, la boîte à gaz et la chambre de traitement. Le canon à ions est composé d'une source d'ions, d'une grille d'accélération et d'une lentille de collimateur. La source d'ions doit être compatible avec le matériau sur lequel on travaille, et la grille d'accélération et la lentille de collimateur se combinent pour générer un faisceau d'ions collimatés ; ce faisceau peut alors être focalisé et dirigé avec précision vers la zone de travail. La boîte à gaz est utilisée pour générer un environnement contrôlé dans la chambre de procédé ; il abrite la source de gaz et fournit un plan sur lequel le matériau est placé. Enfin, la chambre de procédé est celle où se déroule le processus de fraisage et de gravure, la poutre interagissant avec le matériau sur le plan de la boíte à gaz. La machine produit un faisceau d'ions finement contrôlé qui peut cibler avec précision le matériau de travail couche par couche. Il en résulte une gravure précise de l'ordre des sous-microns qui peut être utilisée pour créer des motifs et des structures extrêmement complexes. En outre, cette opération peut être automatisée et, avec une bonne programmation, peut générer des motifs complexes avec une grande précision et une grande vitesse. L'utilisation de gaz inertes assure également que le matériau n'est pas endommagé par le procédé lui-même. Nanofab 150 est un équipement très avancé conçu pour le broyage précis et la gravure de matériaux délicats au niveau sub-micron. Il fournit un haut degré de précision et de contrôle pour les applications de gravure et de microfabrication. L'outil est entièrement automatisé et, avec une programmation adéquate, peut gagner du temps et augmenter la qualité et le débit de production.
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