Occasion PHILIPS / FEI DB235 #293616080 à vendre en France

PHILIPS/FEI DB235 est un équipement de fraisage ionique conçu pour le polissage de surface de précision (ou « pulvérisation ») des composants microélectroniques. Ce système de fraisage utilise un faisceau d'ions fortement focalisé pour éliminer les défauts micro-échelle des surfaces sans endommager le matériau sous-jacent du substrat. Le faisceau d'ions est généré par une source d'ions qui est couplée à une chambre à vide. Afin de contrôler la taille et la forme du faisceau d'ions, une plaque d'ouverture réglable est installée à l'entrée de la chambre à vide. Le faisceau ionique est focalisé et dirigé par une série de lentilles, créant un faisceau fin de diamètre typiquement inférieur ou égal à 5 microns. Avec cet équipement, les pièces peuvent être fraisées avec une précision de 1 micron ou mieux. La programmation de l'unité de fraisage permet aux utilisateurs d'ajuster la profondeur de la pulvérisation, la direction des ions et la vitesse de la pulvérisation. Il est possible d'ajuster les conditions de fraisage pour réaliser un polissage fin ou grossier. De plus, sur la machine FEI DB235, la puissance de la source d'ions peut être ajustée pour faire varier l'énergie du faisceau pour tenir compte de différents substrats et motifs d'élimination des défauts. L'outil est équipé d'un certain nombre de dispositifs de sécurité. Un obturateur de sécurité assure que la poutre n'est pas active lorsqu'elle n'est pas utilisée. Un matériel de nettoyage automatisé à l'intérieur de la chambre nettoie périodiquement les surfaces intérieures, assurant ainsi que la contamination n'est pas facilement transférée aux composants pendant le processus de fraisage. Le modèle PHILIPS DB 235 est idéal pour de nombreuses applications microélectroniques, y compris la production de circuits intégrés haute densité et de MEMS. Cet équipement s'est avéré être une solution rentable pour le broyage de précision et le polissage de surface, de sorte qu'il peut être utilisé à la fois dans les contextes de recherche et industriel.