Occasion PHILIPS / FEI Strata 400 #9172655 à vendre en France
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Vendu
ID: 9172655
Dual ion beam system
Electron source: Schottky Thermal field emitter
Ion source: Gallium liquid metal
Image resolution: <0.8 nm achievable SEM-STEM Mode
Maximum sample size: 75 mm diameter
Loadlock compatible
PC
Power rack
Desk
Does not include EDS and chiller
Sample types:
Wafer pieces
Packaged parts
TEM Half-grids
Flip stage:
Removable row holder up to (6) TEM Grids
Total tilt range: >150°C
External load base: Loading / Unloading grids from row holder
In-situ section extraction system
SEM-STEM Detector:
Multi-region:
Bright field
Dark field
(12) High-angle dark field segments
Key options:
Gas chemistry: Range of proprietary deposition and etch chemistries (TEOS, W, Pt)
Hardware: OMNIPROBE 200
Beam voltage:
SEM: 200 V - 30 kV
FIB: 2 kV - 30 kV
User interface:
GUI with integrated SEM, FIB, GIS
Imaging and patterning
Simultaneous patterning and imaging mode
Operating system: Windows 2000.
PHILIPS/FEI Strata 400 Ion Milling Equipment est un système avancé de fraisage ionique conçu pour la gravure de précision et le nettoyage des surfaces. C'est une technique de fraisage ionique utilisée pour obtenir une finition de surface extrêmement fine et un haut degré de contrôle de surface pour les surfaces. Cette unité utilise un large spectre puissant d'ions énergétiques pour broyer simultanément la surface des matériaux non métalliques et métalliques afin d'obtenir une topographie uniforme. La machine est un outil étroitement intégré composé de deux composants principaux : la source d'ions et la chambre de pulvérisation. La source d'ions est une source d'ions à haute tension, à fort courant, avec deux plages d'énergie ionique principale et deux méthodes de déclenchement différentes (impulsionnel et continu). La source peut générer des ions à une plage d'énergie prédéterminée, fournissant une couverture de faisceau large. La chambre de pulvérisation est une chambre fermée qui abrite une chambre de réaction plasma d'un côté et un ensemble électrostatique de direction de faisceau de l'autre. La chambre de réaction plasma est une chambre à vide remplie d'un gaz inerte, permettant aux particules ionisées de se déplacer librement tout en aidant à protéger l'échantillon de l'oxydation. L'ensemble direction-faisceau aide à diriger sélectivement les ions vers une zone particulière où la gravure ou le nettoyage doit être effectué. Dans l'ensemble, FEI Strata 400 est conçu pour fournir aux utilisateurs un processus précis et cohérent de fraisage ionique pour la réalisation d'applications de gravure et de nettoyage haute résolution. En utilisant la grande gamme d'énergies ioniques et l'ensemble de direction sélective de faisceau, les utilisateurs peuvent obtenir une finition uniforme et une texture de surface uniforme pour leur surface d'échantillon avec un niveau de précision extrêmement élevé. De plus, le procédé étant anisotrope et non sélectif, il n'est pas nécessaire de recourir à des techniques spéciales de fertilisation ou de post-traitement.
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