Occasion VEECO RF 350 C2 IBD #9124215 à vendre en France

VEECO RF 350 C2 IBD (Ion Beam Deposition) est un équipement de fraisage ionique spécialement conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. Son réacteur de pulvérisation par pulvérisation intégrée et sa technologie d'imprégnation par faisceau d'ions le rendent bien adapté à une variété d'opérations de dépôt et de fraisage de matériaux. Le système est capable de la croissance de film définie en bordure (EBSD) et d'autres processus de fabrication de micro-dispositifs. L'unité de fraisage ionique est compatible avec le vide et contient plusieurs caractéristiques qui optimisent son efficacité. Le RF 350 comporte une source de plasma haute fréquence, une alimentation RF de 2000 watts et une chambre à vide de 100 cm2, permettant de générer des photons et des électrons de plasma pour un fraisage accéléré. La puissante source RF sert également de composante critique du processus global de pulvérisation, permettant une gamme de films de dépôt de nanomètres à microns d'épaisseur, avec une uniformité précise. Le RF 350 présente également un alignement angulaire sophistiqué de la source d'ions. Ceci assure l'homogénéité et l'épaisseur appropriées des films à déposer. Le RF350 C2 contient deux sources d'ions commandées par ordinateur qui peuvent être ajustées individuellement pour des applications de couches de dépôt de haute précision. En outre, l'illuminateur IBD VEECO RF350 C2 comprend une variété d'optiques et de détecteurs pour apporter des matériaux de la plus haute qualité à l'ensemble du processus de fabrication. RF 350 C2 IBD est contrôlé par une machine de contrôle complète qui permet une surveillance améliorée des processus avec des résultats reproductibles. L'interface graphique conviviale affiche des informations critiques en temps réel et offre une gamme de fonctions de capture de données pour les applications les plus complexes. L'outil de fraisage ionique est capable de réaliser un fraisage et une gravure à haute résolution de divers matériaux, dont les métaux, les polymères, le carbone et le silicium. RF350 C2 IBD est un choix idéal pour les appareils r2D-2D et les nanostructures. Ses caractéristiques intégrées et sa technologie de pointe le rendent parfaitement adapté à des tolérances de production serrées, à des films minces et primitifs, et à des géométries complexes, apportant des pièces et des matériaux de la plus haute qualité à l'utilisateur.