Occasion CYMER ELS 7000 #293656110 à vendre en France

Le laser CYMER ELS 7000 est une source laser excimère développée et fabriquée par CYMER. Ce modèle de laser est principalement utilisé pour la fabrication de dispositifs nano-niveaux, y compris la micro et nano-électronique avancée. Ce laser est conçu pour créer des structures photorésistantes tridimensionnelles qui sont essentielles pour toute production de puces à grande échelle. ELS 7000 dispose d'un laser excimère LD ArF (193 nm) robuste et fiable pour répondre aux besoins croissants des industries des semi-conducteurs et des nanotechnologies. Cet équipement est un laser ArF standard converti d'une longueur d'onde unique de 193nm. Il comprend une chambre laser de 6 pouces et une gamme d'options de puissance allant de 0,8 kW à 2,5 kW. Le système laser est utilisé principalement pour la photorésistance ainsi que pour le développement d'applications de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). L'unité CYMER ELS 7000 dispose également d'une machine intégrée de surveillance de la productivité de la puissance laser capable de collecter des données en cours de traitement. Cet outil contribue à assurer la traçabilité et le contrôle de la qualité du produit, améliorant ainsi le rendement et la fiabilité du produit final. En outre, l'actif dispose de technologies de continuité des impulsions et de contrôle des impulsions, permettant une source rapide et stable d'impulsions laser, ce qui améliore encore le contrôle des couches pour les processus critiques. Dans l'ensemble, le laser ELS 7000 est bien adapté à la production industrielle de processeurs semi-conducteurs, offrant un fonctionnement fiable et de grande puissance à un prix très abordable. Sa puissante longueur d'onde unique et son amélioration constante de la conception des sources laser le rendent idéal pour les applications en nanotechnologie, et le modèle de surveillance intégré fournit une méthode efficace et rentable pour garantir la qualité et la traçabilité des produits.