Occasion ABM 350W #9227481 à vendre en France

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ABM 350W
Vendu
Fabricant
ABM
Modèle
350W
ID: 9227481
System.
ABM 350W est un aligneur de masque créé pour des applications de photolithographie dans l'industrie des semi-conducteurs. Il s'agit d'un dispositif modulaire capable d'automatiser l'alignement, l'exposition et le développement de divers substrats. Une plaquette semi-conductrice est placée dans le module de base Aligner ; le module Aligner Reader est ensuite utilisé pour détecter l'alignement des photomasques et la position de l'image depuis la caméra de balayage. Un algorithme d'alignement ultérieur est utilisé pour ajuster la position du substrat en fonction de la position du masque. L'équipement optique de 350W se compose d'une caméra numérique, d'une lampe haute luminosité et d'un projecteur 8X de transmission. Le processus d'alignement dynamique est guidé par un système en boucle fermée qui s'adapte rapidement pour compenser le désalignement. L'appareil photo numérique est très précis et est capable de résoudre des caractéristiques de micro-taille. Le module d'exposition d'ABM 350W est équipé d'une lampe au xénon 400W pour l'exposition du photomasque sur le substrat. L'exposition peut être ajustée avec précision en contrôlant l'intensité et le temps d'exposition de la lampe. Enfin, le module de développement de 350W est conçu pour développer la zone exposée du substrat, fournissant un procédé contrôlé d'élimination de la résine photosensible restante. Il permet des conditions de développement optimales pour des caractéristiques telles que des contacts surélevés, des vias et des plaquettes à motifs de hauteurs et de largeurs différentes. ABM 350W permet un processus de photolithographie automatisé de haute précision pour les applications de microélectronique et d'optoélectronique. Sa conception modulaire permet une flexibilité et une évolutivité et elle fournit une unité d'imagerie haute résolution à faible distorsion pour des mesures précises d'alignement et de recouvrement. De plus, sa machine en boucle fermée permet une optimisation continue des processus, ce qui améliore les rendements et la répétabilité du premier passage.
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