Occasion ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M #293596008 à vendre en France

Un aligneur de masque ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M est un équipement de précision qui est utilisé dans le processus d'alignement de la fabrication de circuit intégré semi-conducteur (IC). Il se compose typiquement de deux composants principaux : un étage de plaquette et un étage réticulaire. L'étage de plaquette supporte et aligne la plaquette dans sa position avant les cycles d'alignement. L'étage réticulaire est responsable de l'alignement du photomasque (ou réticule) par rapport à la position d'alignement de la plaquette. Les deux étages disposent de systèmes de vide qui aspirent la plaquette ou réticulent vers le bas, fournissant une base solide et stable pour le processus d'alignement. L'alignement de masque ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M est équipé d'un système de collimation, qui se compose d'un séparateur de faisceau et de deux lentilles, fournissant une source lumineuse collimatée qui est utilisée pour mesurer le désalignement angulaire entre la plaquette et le réticule. La précision d'alignement de l'alignement du masque ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M est obtenue à l'aide de plusieurs servomoteurs fonctionnant selon les axes X-Y-Z. Ces servomoteurs fournissent et maintiennent des précisions d'alignement horizontales et verticales allant jusqu'à +/-0,5 microns. L'alignement de masque ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M est alimenté par un PC industriel avec une unité d'exploitation avancée et un logiciel individuel pour contrôler l'ensemble du processus d'alignement, de positionnement et de balayage. Cela permet à la machine de positionner la plaquette et le réticule, de mesurer le désalignement et de régler ou corriger l'alignement si nécessaire. En outre, la plate-forme PC fournit également une capacité de réseautage pour les paramètres, les moniteurs, le dépannage et le diagnostic. Une machine optique composée de deux systèmes d'imagerie et de sources de lumière UV continues avec des capteurs à arc est utilisée dans l'alignement de masque ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M. L'outil d'imagerie est utilisé pour capturer l'image du réticule et de la plaquette, tandis que les capteurs d'arc mesurent leur angle de contact. Ceci garantit une précision maximale de déplacement dans les axes X-Y-Z avec des taux d'erreur toujours faibles. De plus, ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M comprend également un dispositif de contrôle de caméra double (DCCD), qui est utilisé pour observer et comparer les images du réticule et de la plaquette, fournissant un résultat d'alignement plus fiable. Le masque ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M aligneur est conçu pour fournir une précision supérieure dans ses résultats d'alignement. Il fournit une précision de répétabilité allant jusqu'à 0,25 micron et sa précision d'alignement globale est réglée à +/- 0,5 micron. Cela en fait un excellent choix pour les applications dans les lignes de production de semi-conducteurs de pointe. En outre, son atout de contrôle avancé, son modèle optique fiable et sa facilité de mise en réseau rendent le fonctionnement simple et efficace.