Occasion ASYST 0FH3000-001 #9384810 à vendre en France

ASYST 0FH3000-001 est un adaptateur de masque de pointe conçu pour le transfert de motifs photomasques de haute précision vers des semi-conducteurs et d'autres substrats. Il est compatible avec les dimensions standard des photomasques et dispose d'un équipement d'alignement de haute précision multi-étages. Le système se compose d'une table x-y symétrique et indépendante et d'une source d'imagerie par contact UV. 0FH3000-001 utilise un processus d'alignement en quatre étapes pour assurer un placement de photomasque extrêmement précis. Il utilise deux capteurs pour localiser un marqueur sur le photomasque et un photomasque de référence pour aligner avec précision le masque sur le substrat. L'unité utilise alors deux interféromètres de projection pour identifier chacun des repères photomasques. Cette information est utilisée pour placer avec précision chacune des filières sur le photomasque par rapport aux marques fiduciaires. Ceci garantit une grande précision de placement sur toute la surface du photomasque. ASYST 0FH3000-001 dispose également d'un champ de vision multi-zones. Cette fonctionnalité permet à la machine de cibler l'éclairage multi-LED ou multi-zone pour assurer une correction uniforme dans les photomasques multi-zone et/ou pleine taille. L'outil utilise des systèmes d'imagerie par zone qui se combinent avec la sensibilité d'alignement interférométrique pour obtenir un placement rapide et précis des motifs photomasques sur toute la zone de la puce. 0FH3000-001 est conçu pour le transfert de motifs photomasques de haute précision vers la plaquette. Pour garantir une grande précision et fiabilité, ASYST 0FH3000-001 dispose d'éléments de conception opto-mécanique avancés tels que des actionneurs de haute précision, des systèmes d'entraînement à force nulle et des matériaux avancés résistant aux chèmes pour créer un fonctionnement sans service. L'actif est également équipé d'une source d'imagerie haute résolution, assurant des performances supérieures pour les motifs photomasques sous-microns. En résumé, 0FH3000-001 est un aligneur de masque avancé conçu pour faciliter le transfert de motifs photomasques de haute précision vers des substrats électroniques de croissance. Il dispose d'un modèle d'alignement multi-étages haute précision avec des systèmes d'imagerie par zone pour assurer une correction uniforme. L'équipement est également équipé de systèmes d'entraînement à force zéro et de matériaux avancés résistant au chem pour un fonctionnement fiable.